一种锑化镓晶片表面加工用抛光装置的制作方法

1.一种锑化镓晶片表面加工用抛光装置，包括装置主体(1)、抛光盘(2)、搅拌桶(3)、连接泵口(4)、连接头(5)、输送管(6)、连接架(7)、放置盘(8)、晶片主体(9)、限位盘(10)、压板(11)、定位板(12)和调节机构(21)，其特征在于：所述装置主体(1)的外壁旋转连接有抛光盘(2)，所述装置主体(1)的外壁固定连接有搅拌桶(3)，所述连接泵口(4)设置于搅拌桶(3)的顶部，所述连接泵口(4)的内壁可拆卸连接有连接头(5)，所述连接头(5)的外壁固定连接有输送管(6)，所述装置主体(1)的外壁固定连接有套接于输送管(6)外壁的连接架(7)，所述放置盘(8)放置于抛光盘(2)的表面，所述放置盘(8)的底部设置有晶片主体(9)，所述放置盘(8)的外壁套接有限位盘(10)，所述限位盘(10)的内壁放置有与放置盘(8)顶部相贴合的压板(11)，所述限位盘(10)的内壁放置有位于压板(11)上方的定位板(12)；

2.根据权利要求1所述的一种锑化镓晶片表面加工用抛光装置，其特征在于：所述搅拌桶(3)的顶部开设有加注口(18)，所述连接头(5)的外壁设置有外螺旋(19)，所述连接泵口(4)的内壁与外螺旋(19)的连接部位设置有内螺旋(20)；

3.根据权利要求2所述的一种锑化镓晶片表面加工用抛光装置，其特征在于：所述安装机构(15)包括有：

4.根据权利要求3所述的一种锑化镓晶片表面加工用抛光装置，其特征在于：所述插杆(1502)和卡块(1503)的挤压部位呈圆弧状，所述卡块(1503)和伸缩杆(1504)均设置有两组，两组所述卡块(1503)和伸缩杆(1504)的位置分布均关于插杆(1502)的中心轴相对称；

5.根据权利要求3所述的一种锑化镓晶片表面加工用抛光装置，其特征在于：所述转动杆(1506)通过卡块(1503)与连接杆(1507)之间构成转动结构，所述转动杆(1506)设置有两组，两组所述转动杆(1506)的位置分布关于连接杆(1507)的中心轴相对称。

6.根据权利要求2所述的一种锑化镓晶片表面加工用抛光装置，其特征在于：所述清理机构(16)包括有：

7.根据权利要求6所述的一种锑化镓晶片表面加工用抛光装置，其特征在于：所述升降杆(1604)通过第三螺纹杆(1602)与限位槽(1605)之间构成升降结构，所述清理刮板(1610)通过升降杆(1604)与限位槽(1605)之间构成升降结构；

8.根据权利要求2所述的一种锑化镓晶片表面加工用抛光装置，其特征在于：所述搅拌机构(17)包括有：

9.根据权利要求8所述的一种锑化镓晶片表面加工用抛光装置，其特征在于：所述伸缩块(1706)通过微型防潮电动推动进行驱动，所述固定刮板(1704)和伸缩刮板(1708)的外壁轮廓均呈圆柱状；

10.根据权利要求8所述的一种锑化镓晶片表面加工用抛光装置，其特征在于：所述顶升杆(1705)通过伸缩块(1706)和摆动杆(1707)与固定刮板(1704)之间构成伸缩结构，所述固定刮板(1704)的内壁与顶升杆(1705)的连接部位开设有连接槽。