量子超构元件的位移测量系统、测量方法和EUV光刻机

1.一种量子超构元件的位移测量系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的量子超构元件的位移测量系统，其特征在于，还包括：光子汇聚部；

3.根据权利要求2所述的量子超构元件的位移测量系统，其特征在于，还包括：分束镜和反射部；

4.根据权利要求1-3任一项所述的量子超构元件的位移测量系统，其特征在于，所述计算部包括第一单光子探测器、第二单光子探测器和关联计数器；

5.根据权利要求1-3任一项所述的量子超构元件的位移测量系统，其特征在于，所述超构元件包括基板以及设于所述基板上的超构单元阵列，所述超构单元阵列中的各个超构单元形状相同且均匀分布；

6.根据权利要求5所述的量子超构元件的位移测量系统，其特征在于，所述超构单元为椭圆形或长方形或任意c2对称基础图形。

7.根据权利要求1所述的量子超构元件的位移测量系统，其特征在于，所述纠缠光源发生器包括纠缠光子对生成部、过滤部、偏振分束器、角度调节部和时延调节部；

8.根据权利要求7所述的量子超构元件的位移测量系统，其特征在于，所述纠缠光子对生成部包括连续光激光器和bbo晶体；

9.一种超构元件的位移测量方法，其特征在于，使用上述权利要求1-8任一项所述的量子超构元件的位移测量系统，应用于计算部，包括：

10.一种euv光刻机，其特征在于，使用上述权利要求1-8任一项所述的基于量子超构元件的位移测量系统。