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一种含溴化合物整平剂及其应用的电镀铜溶液

2025-05-03 11:20:06 211次浏览

技术特征:

1.一种含溴化合物整平剂,其特征在于:该含溴化合物整平剂为含芴聚合物的电解铜箔整平剂,该含芴聚合物整平剂为聚芴、聚(9,9-二辛基芴-2,7-二酮)、聚(9,9-二辛基芴-2,7-二基苯胺)、聚(9,9-双{3’-[(n,n-二甲基)-n-乙基铵}-丙基]-2,7-芴二溴化物,聚(9,9-二辛基芴),聚(二甲氧基芴),聚(三十乙氧基甲氧基芴)中的任意一种。

2.一种含溴化合物整平剂,其特征在于:该含溴化合物整平剂为含萘酰亚胺类化合物的电解铜箔整平剂,该含萘酰亚胺类化合物为萘酰亚胺、n-丁基-4-(氮杂-15-冠-5)-1,8-萘酰亚胺,4-溴-n-(2-(n,n-二(2-甲氧基羰基乙基)-氨基)乙基)-1,8-萘酰亚胺,2,7-双(3-(二甲胺基)丙基)苯并(1,3,6,8)菲啰啉-1,3,6,8(2h,7h)-四酮二溴化物,4-(1-哌啶基)-1,8-萘酐(pna),4-(1-哌啶基)-n-(2-氨基乙基)-1,8-萘酰亚胺,1-乙酰基-8-氯-4,5-二甲氧基萘酰亚胺中的任意一种。

3.一种含溴化合物整平剂应用的电镀铜溶液,其特征在于:1l该电镀铜溶液由下述质量配比的原料组成:

4.如权利要求3所述的一种含溴化合物整平剂应用的电镀铜溶液,其特征在于:1l上述电镀铜溶液优选下述质量配比的原料:

5.如权利要求4所述的一种含溴化合物整平剂应用的电镀铜溶液,其特征在于:1l上述的电镀铜溶液中原料的最佳质量配比为:

6.如权利要求3-5所述的一种含溴化合物整平剂应用的电镀铜溶液,其特征在于:所述加速剂是聚二硫二丙烷磺酸钠或3-巯基-1-丙烷磺酸钠。

7.如权利要求6所述的一种含溴化合物整平剂应用的电镀铜溶液,其特征在于:所述抑制剂为聚乙二醇或嵌段聚醚或聚乙烯吡咯烷酮的其中一种。

8.如权利要求7所述的一种含溴化合物整平剂应用的电镀铜溶液,其特征在于:所述聚乙二醇是数均分子量为4000的peg-4000、数均分子量为6000的peg-6000或数均分子量为8000的peg-8000中的任意一种。

9.如权利要8所述的一种含溴化合物整平剂应用的电镀铜溶液,其特征在于:所述嵌段聚醚是数均分子量为1000的普朗尼克pe3100、数均分子量为1750的普朗尼克pe4300、数均分子量为2000的普朗尼克pe6100、数均分子量为2450的普朗尼克pe6200、数均分子量为2900的普朗尼克pe6400、数均分子量为8000的普朗尼克pe6800、数均分子量为2125的普朗尼克rpe1740、数均分子量为3080的普朗尼克rpe2035中的任意一种。

10.如权利要求7所述的一种含溴化合物整平剂应用的电镀铜溶液,其特征在于:所述聚乙烯吡咯烷酮是pvpk30、pvpk16-18、pvpk23-27中的任意一种。


技术总结
本发明公开了一种含溴化合物整平剂及其应用的电镀铜溶液,属于铜箔整平剂技术领域。该含溴化合物整平剂为含芴聚合物或者含萘酰亚胺类化合物中的一种。该含溴化合物整平剂应用的电镀铜溶液,1L该电镀铜溶液由下述配比的原料组成:五水硫酸铜5‑250g;硫酸10‑100g;氯化钠或盐酸0.001‑0.5g;加速剂0.0001‑0.05g;含芴聚合物或者含萘酰亚胺类化合物0.00001‑0.05g;抑制剂0.005‑0.8g;二次蒸馏水加至1L。本发明公开的含溴化合物整平剂应用的电镀铜溶液可达到更佳的盲孔填充效果。能够达到93~97%以上,本发明的电镀铜溶液具有性质稳定、使用寿命长;容易生物降解,环境污染小。

技术研发人员:路旭斌,汪丽敏,何晓峰,马兰兰,马汉仓,李建丰
受保护的技术使用者:兰州交通大学
技术研发日:
技术公布日:2024/11/14
文档序号 : 【 39999394 】

技术研发人员:路旭斌,汪丽敏,何晓峰,马兰兰,马汉仓,李建丰
技术所有人:兰州交通大学

备 注:该技术已申请专利,仅供学习研究,如用于商业用途,请联系技术所有人。
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路旭斌汪丽敏何晓峰马兰兰马汉仓李建丰兰州交通大学
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