一种光敏玻璃的制备方法和用途与流程

1.一种光敏玻璃的制备方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述辐射处理的方式包括紫外照射处理。

3.根据权利要求2所述的制备方法，其特征在于，所述紫外照射处理的波长为300nm-320nm，所述紫外照射处理的强度为20mw/cm2-360mw/cm2，所述紫外照射处理的时间为5min-60min。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述掩蔽处理包括使用遮蔽油墨和/或掩膜板进行掩蔽。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述热处理包括核化处理和晶化处理。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述核化处理的升温速率为1℃/min-10℃/min；和/或，

7.根据权利要求1-6中任一项所述的制备方法，其特征在于，以氧化物的质量百分比计，所述基材玻璃的组成，包含：sio2：65.00％-75.00％、al2o3：5.00％-10.00％、li2o：7.00％-13.00％、na2o：2.00％-4.00％、k2o：2.00％-4.00％、zro2：5.00％-7.00％、x：0.05％-0.80％、ceo2：0.05％-0.18％和sb2o3：0.05％-0.51％；

8.根据权利要求1-7中任一项所述的制备方法，其特征在于，以氧化物的质量百分比计，所述光敏玻璃的组成，包含：sio2：65.00％-75.00％、al2o3：5.00％-10.00％、li2o：7.00％-13.00％、na2o：2.00％-4.00％、k2o：2.00％-4.00％、zro2：5.00％-7.00％、x：0.05％-0.80％、ceo2：0.05％-0.18％和sb2o3：0.05％-0.51％；

9.一种光敏玻璃，其特征在于，由权利要求1-8中任一项所述的制备方法制得。

10.根据权利要求9所述的光敏玻璃，其特征在于，当所述的光敏玻璃的厚度为0.40-1.00mm时，所述光敏玻璃的所述曝光区域在850nm波长的透过率t1为0.00％-5.00％，优选透过率t1为0.00％-3.00％；和/或，

11.一种盖板玻璃，其特征在于，所述盖板玻璃包含如权利要求9-10中任一项所述的光敏玻璃。

12.一种电子设备，其特征在于，所述电子设备包含权利要求9-10中任一项所述的光敏玻璃。

13.根据权利要求12所述的电子设备，其特征在于，所述电子设备包括外壳，所述外壳包括权利要求9-10中任一项所述的光敏玻璃。

14.根据权利要求13所述的电子设备，其特征在于，所述电子设备还包括摄像头组件，所述外壳包括摄像头保护盖板，所述摄像头保护盖板盖设在所述摄像头组件上，所述摄像头保护盖板包括权利要求9-10中任一项所述的光敏玻璃。

15.根据权利要求9-10中任一项所述的光敏玻璃在用于手机、智能手表、可穿戴设备、摄像头模组或车辆中的部件的用途。