锂二次电池负极的制备工艺的制作方法

1.一种锂二次电池负极的制备工艺，其特征在于，所述制备工艺包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的锂二次电池负极的制备工艺，其特征在于，所述合成模板的步骤包括：

3.根据权利要求1所述的锂二次电池负极的制备工艺，其特征在于，所述合成模板的步骤包括：

4.根据权利要求1所述的锂二次电池负极的制备工艺，其特征在于，所述合成模板的步骤包括：

5.根据权利要求1至4任一项所述的锂二次电池负极的制备工艺，其特征在于，在所述合成模板的步骤中，所述离子径迹蚀刻工艺的条件包括：以重离子轰击，在2000kw～10000kw的辐照功率下辐照0.5s～200s；和/或，

6.根据权利要求1至4任一项所述的锂二次电池负极的制备工艺，其特征在于，所述通孔的孔径为10nm～50μm，和/或，

7.根据权利要求6所述的锂二次电池负极的制备工艺，其特征在于，所述通孔的孔径为5μm～30μm，和/或，

8.根据权利要求1所述的锂二次电池负极的制备工艺，其特征在于，在所述生长一维柱状结构的步骤中，在所述通孔中生长导电材料的方法采用物理气相沉积、电镀、化学镀或化学气相沉积中的一种；和/或，

9.根据权利要求1所述的锂二次电池负极的制备工艺，其特征在于，所述一维柱状结构的直径为5μm～30μm。

10.根据权利要求1所述的锂二次电池负极的制备工艺，其特征在于，所述一维柱状结构的高度为15μm～50μm。

11.根据权利要求1所述的锂二次电池负极的制备工艺，其特征在于，所述一维柱状结构包括若干呈规则分布的柱体，相邻所述柱体之间的间距为5μm～20μm，或者，所述一维柱状结构包括若干呈不规则分布的柱体。

12.根据权利要求1所述的锂二次电池负极的制备工艺，其特征在于，所述基板为铜箔基板、镍箔基板、不锈钢基板中的至少一者；和/或，