一种含异硫氰酸酯的高折射率光学材料及其制备方法与流程
技术特征：
1.一种含异硫氰酸酯的高折射率光学材料的制备方法，其特征在于，该方法包含以下步骤：
2.异氰酸酯和异硫氰酸酯的重量比为（0.5~3）：（1~3）；
3.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述助剂为三乙基二胺，三乙基二胺与异硫氰酸酯重量百分比为（0.05~0.2）：（1~5）。
4.如权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述催化剂为二月桂酸二丁基锡或异辛酸亚锡，催化剂的加入量为聚氨酯前体材料总量的1~3 wt%。
5.如权利要求1-3中任一项所述的制备方法，其特征在于，所述硫醚型环硫化合物选自以下化合物的至少一种：
6.（i）
7.（ii）
8.（iii）
9.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述异氰酸酯选自甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、间苯二甲基异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、佛尔酮二异氰酸酯和二环己基甲烷二异氰酸酯中的一种。
10.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述硫醇为含2个以上巯基的多硫醇化合物，选自：2,5-二巯基甲基-1,4-二硫杂环己烷、2-(2,2-双(巯基甲基硫基)乙基)-1,3-二硫杂环丁烷、乙二醇双(3-巯基丙酸酯)、4,6-双(巯基甲基硫基)1,3-二硫杂环己烷、三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇四(2-巯基乙酸酯)、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)、4-巯基甲基-1,8-二巯基-3,6-二硫杂辛烷、5,7-二巯基甲基-1,11-二巯基-3,6,9-三硫杂十一烷、4,8-二巯基甲基-1,11-二巯基-3,6,9-三硫杂十一烷等中的至少1种。
11.一种含异硫氰酸酯的高折射率光学材料，其特征在于，其是采用如权利要求1-6中任一项所述方法制备的。
12.一种折光指数为1.66~1.74的高折射率光学材料，其特征在于，其是采用如权利要求1-6中任一项所述方法制备的；其中，
13.一种折光指数为1.75及以上的高折射率光学材料，其特征在于，其是采用如权利要求1-6中任一项所述方法制备的；其中，
技术总结
一种含异硫氰酸酯的高折射率光学材料及其制备方法，该制备方法包括：1）配制聚氨酯前体材料，包含A、B、C三组分，其中A组分为25～60 wt%异硫氰酸酯和异氰酸酯组合物，B组分为5～30 wt%折光指数为1.56~1.80硫醇化合物，C组分为15～50 wt%含有4‑6个硫原子的硫醚型环硫化合物。2）预聚合反应。3）交联固化。该方法获得的光学材料可见光透射比＞87%，阿贝数＞26，折光指数在1.66~1.78范围内可调节，为高端光学元器件的应用提供更广泛的材料选择范围。其中，异硫氰酸酯选自以下化合物的至少一种：
技术研发人员：王明华,纪立军,王锦艳,宗立率,陶淞源,郑永华,毕志刚,韩梦轩,唐创,张宇欣,刘洋
受保护的技术使用者：江苏视科新材料股份有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/12/2
技术研发人员：王明华,纪立军,王锦艳,宗立率,陶淞源,郑永华,毕志刚,韩梦轩,唐创,张宇欣,刘洋
技术所有人：江苏视科新材料股份有限公司
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