高纯氯唑西林钠晶体的制备方法

1.一种高纯氯唑西林钠晶体的制备方法，步骤如下：

2.根据权利要求1所述的高纯氯唑西林钠晶体的制备方法，所述步骤1中6-apa与混合溶剂的质量比为1:5～1:15，所述混合溶剂为溶剂i与溶剂ii的混合溶剂。

3.根据权利要求1所述的高纯氯唑西林钠晶体的制备方法，所述步骤1中所用邻氯酰氯与溶剂ii的质量比为1:2～1:5。

4.根据权利要求1所述的高纯氯唑西林钠晶体的制备方法，所述步骤1中溶液b的流加速率为2～6ml/min。

5.根据权利要求1所述的高纯氯唑西林钠晶体的制备方法，所述步骤2中溶剂iii和溶剂i质量比为1.5:1～2.4:1。

6.根据权利要求1所述的高纯氯唑西林钠晶体的制备方法，所述步骤3中溶剂iv与成盐剂用量比为1:1～2:1。

7.根据权利要求1所述的高纯氯唑西林钠晶体的制备方法，所述步骤3中成盐溶液的流加速率为2～6ml/min。

8.根据权利要求1所述的高纯氯唑西林钠晶体的制备方法，所述步骤4中溶剂v总量与溶剂iii的质量比为1.5:1～3:1。

9.根据权利要求1所述的高纯氯唑西林钠晶体的制备方法，所述步骤4中溶剂v的流加速率控制在0.1ml/min～10ml/min。

10.根据权利要求1所述的高纯氯唑西林钠晶体的制备方法，所述步骤5中结晶器内溶剂蒸发速率为5～10ml/h，以6-apa 10g计。