一种具有光催化功能的陶瓷砖及其制备方法与流程

1.一种具有光催化功能的陶瓷砖，其特征在于，包括陶瓷砖本体及其表面依次设置的第一光催化涂层和第二光催化涂层，所述第一光催化涂层为自分散纳米锐钛矿型氧化钛，所述第二光催化涂层包括氧化硅和自分散纳米锐钛矿型氧化钛。

2.根据权利要求1所述的具有光催化功能的陶瓷砖，其特征在于，所述第二光催化涂层由复合分散液旋压涂覆于所述第一光催化涂层表面形成，所述复合分散液包括阳离子型硅溶胶和自分散纳米锐钛矿型氧化钛。

3.根据权利要求2所述的具有光催化功能的陶瓷砖，其特征在于，所述复合分散液还包括有机硅亲水改性剂和水性丙烯酸树脂。

4.根据权利要求3所述的具有光催化功能的陶瓷砖，其特征在于，所述有机硅亲水改性剂为聚醚改性聚硅氧烷、环氧基聚醚改性聚硅氧烷和氨基聚醚改性聚硅氧烷中的一种。

5.根据权利要求1至4任一项所述的具有光催化功能的陶瓷砖，其特征在于，所述自分散纳米锐钛矿型氧化钛的平均粒径为3 nm-10 nm。

6.一种如权利要求1至5任一项所述的具有光催化功能的陶瓷砖的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将氧化钛分散液旋压涂覆在所述陶瓷砖本体的表面形成所述第一光催化涂层，然后将复合分散液旋压涂覆在所述第一光催化涂层的表面形成所述第二光催化涂层；所述氧化钛分散液由自分散纳米锐钛矿型氧化钛与水混合得到，所述复合分散液包括自分散纳米锐钛矿型氧化钛、阳离子型硅溶胶和水。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述氧化钛分散液的固含量为3%-15%，涂覆量为30 g/m2-50 g/m2。

8.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述阳离子型硅溶胶的固含量为20%-30%。

9.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述复合分散液还包括有机硅亲水改性剂和水性丙烯酸树脂。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述复合分散液中，氧化钛的质量浓度为1%-5%，氧化硅的质量浓度为6%-15%，有机硅亲水改性剂的质量浓度为1%-3%，水性丙烯酸树脂的质量浓度为3%-5%，所述复合分散液的涂覆量为40 g/m2-80 g/m2。