理论光谱库建库的方法、测量方法及其电子设备、介质、程序产品与流程

1.一种理论光谱库建库的方法，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的理论光谱库建库的方法，其特征在于，所述半导体器件包括同一批次产品在不同工艺阶段和工艺参数下的所有半导体结构。

3.根据权利要求2所述的理论光谱库建库的方法，其特征在于，当某一工艺阶段或者工艺参数发生变化，在原几何模型中引入新的主模块时，将所述新的主模块及其对应的结构参数集合和散射矩阵/传输矩阵保存至主模块矩阵库。

4.根据权利要求1所述的理论光谱库建库的方法，其特征在于，还包括：

5.根据权利要求4所述的理论光谱库建库的方法，其特征在于，所述计算半导体器件的结构模型所对应的理论光谱的步骤还包括：

6.根据权利要求1所述的理论光谱库建库的方法，其特征在于，当相邻主模块之间存在共用结构参数时，所述共用结构参数与所述相邻主模块分别计算每个主模块的散射矩阵，并一一对应保存。

7.根据权利要求1所述的理论光谱库建库的方法，其特征在于，根据所述半导体器件中的材料或/和形状的一致性将半导体结构划分为多个主模块。

8.根据权利要求1所述的理论光谱库建库的方法，其特征在于，根据所述半导体器件中的关键尺寸来设置所述结构参数，根据所述半导体器件的制造工艺来设置所述结构参数的浮动范围。

9.根据权利要求1所述的理论光谱库建库的方法，其特征在于，采用电磁场严格耦合波分析的方法计算每个主模块的散射矩阵或者传输矩阵。

10.根据权利要求9所述的理论光谱库建库的方法，其特征在于，计算每个主模块的散射矩阵/传输矩阵的方法包括：

11.根据权利要求5或10所述的理论光谱库建库的方法，其特征在于，所述迭代操作为根据散射矩阵/传输矩阵之间根据连续电磁场连续边界条件得到。

12.一种关键尺寸的测量方法，其特征在于，包括：

13.一种电子设备，其特征在于，所述设备包括存储有计算机可执行指令的存储器和处理器；

14.一种计算机可读介质，其特征在于，所述计算机可读介质存储有一个或者多个程序，所述一个或者多个程序可被一个或者多个处理器执行，以实现权利要求1至12中任一项所述的方法。

15.一种计算机程序产品，包括计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1至12中任一项所述的方法。