首页  专利技术  电子电路装置的制造及其应用技术

一种活性炭及其除杂方法和在制备电子级硼酸中的应用与流程

2026-03-25 16:00:07 258次浏览

技术特征:

1.一种活性炭的除杂方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的除杂方法,其特征在于,步骤s1中,所述活性炭为木质活性炭。

3.根据权利要求1所述的除杂方法,其特征在于,步骤s2中,所述超纯水的电导率≤1μs;

4.根据权利要求1所述的除杂方法,其特征在于,步骤s3中,所述金属杂质包括铜、钙、镁、锂、钠、钾、铝、铬、锰、铁、镍、锡、钛、钴、锌、砷、锆、银、镉、金、铅、汞、铟或铊中的至少一种。

5.权利要求1~4任一项所述的除杂方法得到的活性炭。

6.权利要求5所述的活性炭在制备电子级硼酸中的应用。

7.一种电子级硼酸的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:将硼酸粗品溶液通过含有权利要求5所述活性炭的活性炭柱,进行除油,得到硼酸除油液;将所述硼酸除油液进行提纯处理,得到所述电子级硼酸。

8.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,进行除油时,所述硼酸粗品溶液在活性炭柱中的停留时间为0.6~5h。

9.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,进行除油时,所述硼酸粗品溶液的ph值为2~5。

10.根据权利要求7所述的制备方法,其特征在于,所述活性炭为颗粒状活性炭,所述颗粒状活性炭的平均粒径为0.5~3mm。


技术总结
本发明公开了一种活性炭及其除杂方法和在制备电子级硼酸中的应用。本发明提供的活性炭的除杂方法包括以下步骤:S1、一级清洗:采用稀硫酸清洗活性炭原料并浸泡20~30h,得到一级活性炭;S2、二级清洗:采用超纯水清洗所述一级活性炭,得到二级活性炭和水洗液,所述水洗液的电导率≤10μS;S3、三级清洗:采用硼酸溶液清洗所述二级活性炭,得到除杂后的活性炭和硼酸洗液,所述硼酸洗液中的金属杂质总含量与所述硼酸溶液中的金属杂质总含量的差值≤30μg/L。本发明采用三级清洗的方式对活性炭原料进行除杂,得到的活性炭的金属杂质总含量低,将其用于电子级硼酸的制备工艺中具有良好的效果,尤其是能够实现良好的TOC去除效果。

技术研发人员:吴楚明,唐浪浪,赖林清,龙全安,吴芳,罗爱平
受保护的技术使用者:广东芳源新材料集团股份有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/11/26
文档序号 : 【 40123412 】

技术研发人员:吴楚明,唐浪浪,赖林清,龙全安,吴芳,罗爱平
技术所有人:广东芳源新材料集团股份有限公司

备 注:该技术已申请专利,仅供学习研究,如用于商业用途,请联系技术所有人。
声 明此信息收集于网络,如果你是此专利的发明人不想本网站收录此信息请联系我们,我们会在第一时间删除
吴楚明唐浪浪赖林清龙全安吴芳罗爱平广东芳源新材料集团股份有限公司
一种电力运维管理系统及其运维方法与流程 一种电路板锡膏印刷机及其使用方法与流程
相关内容