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显示面板及其制备方法、显示装置与流程

2026-03-03 12:20:07 219次浏览
显示面板及其制备方法、显示装置与流程

本技术涉及显示,特别是涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。


背景技术:

1、有机发光二极管(organic light emitting diode,oled)具有制备工艺简单、成本低、高对比度、广视角、低功耗等优点,是目前平板显示技术中受到关注最多的技术之一。其中,叠层有机发光二极管(organic light emitting diode,oled)显示面板由于能够降低屏体功耗,同时能够提升寿命,在小尺寸、中尺寸、大尺寸oled显示领域均有应用前景。叠层oled显示面板的横向漏电比较严重,导致显示效果较差。


技术实现思路

1、基于此,有必要提供一种显示面板及其制备方法、显示装置,旨在改善oled显示面板的漏电问题。

2、第一方面,本技术实施例提供一种显示面板,包括:

3、基板;

4、像素限定结构,设于所述基板的一侧;所述像素限定结构上设有间隔排布的多个像素开口;

5、隔离结构,设于所述基板靠近所述像素限定结构的一侧;至少部分相邻的所述像素开口之间设有所述隔离结构;

6、其中,所述隔离结构包括沿远离所述基板方向层叠设置的第一隔离部和第二隔离部;所述第一隔离部在所述基板上的正投影位于所述第二隔离部在所述基板上的正投影范围内;所述第一隔离部和所述第二隔离部均为有机材料,在预设刻蚀条件下,所述第一隔离部的材料的刻蚀速率大于所述第二隔离部的材料的刻蚀速率。

7、在其中一个实施例中,所述像素限定结构被构造为单膜层结构;所述第二隔离部与所述像素限定结构材质相同,且同层设置。

8、在其中一个实施例中,所述显示面板还包括平坦化层,所述平坦化层设于所述基板和所述像素限定结构之间;所述第一隔离部与所述平坦化层材质相同。

9、在其中一个实施例中,所述平坦化层远离所述基板的一侧设有第一凹坑,所述第一凹坑的底壁上凸设有第一凸起,所述第一凸起构成所述第一隔离部。

10、在其中一个实施例中,所述像素限定结构包括沿远离所述基板方向层叠设置的第一像素限定层和第二像素限定层;

11、所述第二隔离部与所述第二像素限定层材质相同,且同层设置;所述第一隔离部与所述第一像素限定层材质相同。

12、在其中一个实施例中,所述第一像素限定层远离所述基板的一侧设有第二凹坑,所述第二凹坑的底壁上凸设有第二凸起,所述第二凸起构成所述第一隔离部。

13、在其中一个实施例中,任意相邻的两个所述像素开口中,至少一个所述像素开口的外围环绕有所述隔离结构。

14、在其中一个实施例中,每一所述像素开口的外围均环绕有所述隔离结构。

15、在其中一个实施例中,所述像素限定结构上设有沿第一方向交替排布的多个第一开口行和多个第二开口行,所述第一开口行和所述第二开口行均包括沿第二方向间隔排布的多个所述像素开口;所述第一方向和所述第二方向均垂直于所述基板的厚度方向,且所述第一方向和所述第二方向相交;

16、其中,所述第一开口行中的每一所述像素开口的外围均环绕有所述隔离结构。

17、在其中一个实施例中,所述隔离结构包括间隔设置的多个子段,所述多个子段环绕于对应的所述像素开口的外围。

18、在其中一个实施例中,每一所述像素开口的外围均环绕有所述隔离结构;

19、同一所述隔离结构中,相邻的两个所述子段之间的空间为缺口;在相邻的两个所述隔离结构中,一所述隔离结构的部分所述缺口与另一所述隔离结构的部分所述子段相对设置。

20、在其中一个实施例中,所述显示面板还包括支撑柱,所述支撑柱设于所述像素限定结构远离所述基板的一侧,且与所述隔离结构间隔设置;同一所述隔离结构中,相邻的两个所述子段之间的空间为缺口;

21、与所述支撑柱相邻的所述隔离结构的至少一个缺口朝向所述支撑柱。

22、在其中一个实施例中,所述显示面板还包括第一共通层,所述第一共通层包括第一子部和第二子部,所述第一子部设于所述像素限定结构背离所述基板的一侧,所述第二子部设于所述隔离结构背离所述基板的一侧。

23、在其中一个实施例中,所述显示面板还包括多个发光器件,所述多个发光器件与所述多个像素开口一一对应设置,每一所述发光器件的至少部分设于对应的所述像素开口内;

24、其中,所述发光器件包括沿远离所述基板方向层叠设置的第一发光层和第二发光层,部分所述第一子部位于所述第一发光层和所述第二发光层之间。

25、在其中一个实施例中,所述像素限定结构上还设有与所述隔离结构对应设置的隔离口;至少部分数量所述像素开口的外围环绕有所述隔离口;所述隔离结构的至少部分设于对应的所述隔离口内。

26、第二方面,本技术实施例提供一种显示面板的制备方法,包括:

27、提供基板;

28、于所述基板的一侧形成层叠的第一有机材料层和第二有机材料层;

29、在预设刻蚀条件下对所述第一有机材料层和所述第二有机材料层进行刻蚀,并形成像素限定结构和隔离结构;所述像素限定结构上设有间隔排布的多个像素开口;至少部分相邻的所述像素开口之间设有所述隔离结构;所述隔离结构包括沿远离所述基板方向层叠设置的第一隔离部和第二隔离部;所述第一隔离部在所述基板上的正投影位于所述第二隔离部在所述基板上的正投影范围内;在预设刻蚀条件下,所述第一有机材料层的刻蚀速率大于所述第二有机材料层的刻蚀速率。

30、在其中一个实施例中,所述预设刻蚀条件为:腔室压力介于50毫托-150毫托,源功率介于8kw-16kw,偏置功率介于2kw-6kw,氧气流量介于800sccm-1600sccm,刻蚀时间介于25s-45s;

31、所述于所述基板的一侧形成层叠的第一有机材料层和第二有机材料层的步骤,包括:

32、于所述基板的一侧形成所述第一有机材料层;

33、于所述第一有机材料层上形成多个第一子像素开口;

34、于所述第一有机材料层远离所述基板的一侧形成第二有机材料层;

35、于所述第二有机材料层上形成多个第二子像素开口;所述多个第二子像素开口与所述多个第一子像素开口一一对应地连通,对应的所述第一子像素开口和所述第二子像素开口构成所述像素开口。

36、在其中一个实施例中,所述预设刻蚀条件为:腔室压力介于50毫托-150毫托,源功率介于8kw-16kw,偏置功率0kw,氧气流量介于1600sccm-3200sccm,刻蚀时间介于25s-45s;

37、所述于所述基板的一侧形成层叠的第一有机材料层和第二有机材料层的步骤之后,所述在预设刻蚀条件下对所述第一有机材料层和所述第二有机材料层进行刻蚀,并形成像素限定结构和隔离结构的步骤之前,包括:

38、于所述第二有机材料层上形成所述多个像素开口。

39、第三方面,本技术实施例提供一种显示装置,包括第一方面中的显示面板。

40、本技术实施例提供的显示面板及其制备方法、显示装置,通过在至少部分相邻的像素开口之间设置隔离结构,该隔离结构包括第一隔离部和第二隔离部,第一隔离部在基板上的正投影位于第二隔离部在基板上的正投影范围内。如此,隔离结构能够部分阻断共通层,使得位于隔离结构两侧的共通层不连通,从而减弱了横向漏电现象,提升了显示面板和显示装置的显示效果。此外,通过使第一隔离部和第二隔离部均为有机材料,不仅有利于利用显示面板中的原有膜层材料,而且利用第一隔离部和第二隔离部的刻蚀速率差异就可以形成隔离结构,从而降低了显示面板和显示装置的制备难度。

文档序号 : 【 40124237 】

技术研发人员:马扬昭,尹招弟,吴风云
技术所有人:武汉天马微电子有限公司

备 注:该技术已申请专利,仅供学习研究,如用于商业用途,请联系技术所有人。
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马扬昭尹招弟吴风云武汉天马微电子有限公司
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