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显示面板及其制备方法、显示装置与流程

2026-03-03 12:20:07 220次浏览

技术特征:

1.一种显示面板,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述像素限定结构被构造为单膜层结构;所述第二隔离部与所述像素限定结构材质相同,且同层设置。

3.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括平坦化层,所述平坦化层设于所述基板和所述像素限定结构之间;所述第一隔离部与所述平坦化层材质相同。

4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述平坦化层远离所述基板的一侧设有第一凹坑,所述第一凹坑的底壁上凸设有第一凸起,所述第一凸起构成所述第一隔离部。

5.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述像素限定结构包括沿远离所述基板方向层叠设置的第一像素限定层和第二像素限定层;

6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,所述第一像素限定层远离所述基板的一侧设有第二凹坑,所述第二凹坑的底壁上凸设有第二凸起,所述第二凸起构成所述第一隔离部。

7.根据权利要求1-6任一项所述的显示面板,其特征在于,任意相邻的两个所述像素开口中,至少一个所述像素开口的外围环绕有所述隔离结构。

8.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,每一所述像素开口的外围均环绕有所述隔离结构。

9.根据权利要求1-6任一项所述的显示面板,其特征在于,所述像素限定结构上设有沿第一方向交替排布的多个第一开口行和多个第二开口行,所述第一开口行和所述第二开口行均包括沿第二方向间隔排布的多个所述像素开口;所述第一方向和所述第二方向均垂直于所述基板的厚度方向,且所述第一方向和所述第二方向相交;

10.根据权利要求1-6任一项所述的显示面板,其特征在于,所述隔离结构包括间隔设置的多个子段,所述多个子段环绕于对应的所述像素开口的外围。

11.根据权利要求10所述的显示面板,其特征在于,每一所述像素开口的外围均环绕有所述隔离结构;

12.根据权利要求10所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括支撑柱,所述支撑柱设于所述像素限定结构远离所述基板的一侧,且与所述隔离结构间隔设置;同一所述隔离结构中,相邻的两个所述子段之间的空间为缺口;

13.根据权利要求1-6任一项所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括第一共通层,所述第一共通层包括第一子部和第二子部,所述第一子部设于所述像素限定结构背离所述基板的一侧,所述第二子部设于所述隔离结构背离所述基板的一侧。

14.根据权利要求13所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括多个发光器件,所述多个发光器件与所述多个像素开口一一对应设置,每一所述发光器件的至少部分设于对应的所述像素开口内;

15.根据权利要求1-6任一项所述的显示面板,其特征在于,所述像素限定结构上还设有与所述隔离结构对应设置的隔离口;至少部分数量所述像素开口的外围环绕有所述隔离口;所述隔离结构的至少部分设于对应的所述隔离口内。

16.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:

17.根据权利要求16所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述预设刻蚀条件为:腔室压力介于50毫托-150毫托,源功率介于8kw-16kw,偏置功率介于2kw-6kw,氧气流量介于800sccm-1600sccm,刻蚀时间介于25s-45s;

18.根据权利要求16所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述预设刻蚀条件为:腔室压力介于50毫托-150毫托,源功率介于8kw-16kw,偏置功率为0kw,氧气流量介于1600sccm-3200sccm,刻蚀时间介于25s-45s;

19.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-15任一项所述的显示面板。


技术总结
本申请涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。显示面板包括:基板;像素限定结构,设于基板的一侧;像素限定结构上设有间隔排布的多个像素开口;隔离结构,设于基板靠近像素限定结构的一侧;至少部分相邻的像素开口之间设有隔离结构;其中,隔离结构包括沿远离基板方向层叠设置的第一隔离部和第二隔离部;第一隔离部在基板上的正投影位于第二隔离部在基板上的正投影范围内;第一隔离部和第二隔离部均为有机材料,在预设刻蚀条件下,第一隔离部的材料的刻蚀速率大于第二隔离部的材料的刻蚀速率。本申请能够减弱横向漏电现象,提升显示面板和显示装置的显示效果。

技术研发人员:马扬昭,尹招弟,吴风云
受保护的技术使用者:武汉天马微电子有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/11/26
文档序号 : 【 40124237 】

技术研发人员:马扬昭,尹招弟,吴风云
技术所有人:武汉天马微电子有限公司

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马扬昭尹招弟吴风云武汉天马微电子有限公司
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