首页  专利技术  电子电路装置的制造及其应用技术

一种低角度断面的地震剖面确定方法、装置、计算机存储介质及设备与流程

2025-11-29 09:20:02 467次浏览

技术特征:

1.一种低角度断面的地震剖面确定方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.根据权利要求1所述的地震剖面确定方法,其特征在于,所述的“依据是否存在异常岩性或底侵作用导致突变点的形成,确定是否需要对初步分段的低角度目标反射界面进一步分段”具体为:

3.根据权利要求2所述的地震剖面确定方法,其特征在于,所述第二属性参数至少包括以下中的一种:目标反射界面的切割角度断裂、突变点处存在明显的上/下断层贯通、地质体结构错位、分支断裂收束以及反射界面与上覆地层挠曲变形产状不一致。

4.一种低角度断面的地震剖面确定装置,其特征在于,包括:

5.一种计算机存储介质,其上存储有计算机程序,其特征在于,所述计算机程序被处理器执行时实现权利要求1至3任意一项所述的低角度断面的地震剖面确定方法的步骤。

6.一种计算机设备,包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序,其特征在于,所述处理器执行所述计算机程序时实现权利要求1至3任意一项所述的低角度断面的地震剖面确定方法的步骤。


技术总结
本发明公开了一种低角度断面的地震剖面确定方法,包括:初步判断低角度断裂发育的可能构造期次,并明确相应构造期次的应力背景;匹配应力背景方向获取地震剖面,并聚焦地震剖面上待判断的反射界面;提取反射界面的方位角属性作为第一属性,并聚焦第一属性的色标变化,识别第一属性的色标突变点;依据第一属性的色标突变点,对反射界面进行初步分段;确定是否需要对初步分段的反射界面进一步分段;获取每一段反射界面的第二属性参数,若该段反射界面满足第二属性参数,则判断该段反射界面为低角度断面,否则进入下一步;若存在低角度断裂发育的其他可能构造期次,聚焦待判断的反射界面段,并循环判断流程;反之则判断该段反射界面为不整合界面。

技术研发人员:焦保程,纪沫,杨海长,孙瑞,杨东升,郭帅,申琛,丁文静,朱小二,白志钊,罗豪
受保护的技术使用者:中海石油(中国)有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/11/21
文档序号 : 【 40071739 】

技术研发人员:焦保程,纪沫,杨海长,孙瑞,杨东升,郭帅,申琛,丁文静,朱小二,白志钊,罗豪
技术所有人:中海石油(中国)有限公司

备 注:该技术已申请专利,仅供学习研究,如用于商业用途,请联系技术所有人。
声 明此信息收集于网络,如果你是此专利的发明人不想本网站收录此信息请联系我们,我们会在第一时间删除
焦保程纪沫杨海长孙瑞杨东升郭帅申琛丁文静朱小二白志钊罗豪中海石油(中国)有限公司
用户关注度确定方法和装置与流程 一种园林景观循环供水装置的制作方法
相关内容