一种光学关键尺寸测量方法、装置、存储介质及设备与流程
技术特征:
1.一种光学关键尺寸测量方法,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述傅里叶分解矩阵中中心阶的能量,确定筛选范围的步骤,具体包括:
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述比例在1/1000与1/100以内。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,当所述待测微纳结构的光栅区域为非矩形面型时,所述方法还包括:
5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,所述在所述物理模型中光栅区域的周期性分布方向上,对所述光栅区域的介电常数进行傅里叶展开,得到傅里叶分解矩阵;根据所述傅里叶分解矩阵中中心阶的能量,确定筛选范围的步骤,具体包括:
6.如权利要求5所述的方法,其特征在于,所述根据所述傅里叶分解矩阵中各阶次的能量,确定能量落入所述筛选范围的阶次,并根据筛选出的各阶次,确定目标阶次分布矩阵的步骤,具体包括:
7.如权利要求6所述的方法,其特征在于,所述根据各层的目标阶次,确定所述物理模型的目标阶次分布矩阵的步骤,具体包括:
8.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
9.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述各阶次对应的分量以及所述物理模型中的边界条件,通过严格耦合波分析,确定所述待测微纳结构的光学关键尺寸的步骤,具体包括:
10.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:
11.如权利要求10所述的方法,其特征在于,所述通过严格耦合波分析,确定所述待测微纳结构的光学关键尺寸的步骤,具体包括:
12.一种光学关键尺寸测量装置,其特征在于,包括:
13.一种计算机可读存储介质,其特征在于,所述存储介质有计算机程序,所述计算机程序被处理器执行时实现上述权利要求1~11任一项所述的方法。
14.一种电子设备,其特征在于,包括存储器、处理器及存储在存储器上并可在处理器上运行的计算机程序,其特征在于,所述处理器执行所述程序时实现上述权利要求1~11任一项所述的方法。
技术总结
在本说明书提供的一种光学关键尺寸测量方法、装置、存储介质及设备中,在半导体制造领域中,构建待测微纳结构的物理模型,在物理模型中光栅区域的周期性分布方向上,傅里叶展开介电常数,根据介电常数的傅里叶分解矩阵中中心阶的能量确定筛选范围,以及确定傅里叶分解矩阵中能量落入该筛选范围的阶次,得到目标阶次分布矩阵,并根据基于该傅里叶分解矩阵中该目标阶次分布矩阵中各阶次对应的分量以及该物理模型的边界条件,通过严格耦合波分析,确定光学关键尺寸。基于介电常数的傅里叶分解矩阵中心阶的能量,确定筛选范围,并根据筛选范围,筛选出对严格耦合波分析的计算结果影响较大的阶次,保障了待测微纳结构的光学关键尺寸准确性,提高效率。
技术研发人员:党江涛,高海军,刘化庆,陈慧萍,练勇强
受保护的技术使用者:匠岭科技(上海)有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/11/18
技术研发人员:党江涛,高海军,刘化庆,陈慧萍,练勇强
技术所有人:匠岭科技(上海)有限公司
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