基板处理装置的制作方法
技术特征：
1.一种基板处理装置，用以处理基板，并具备：
2.如权利要求1所记载的基板处理装置，其中，
3.如权利要求2所记载的基板处理装置，其中，
4.如权利要求1所记载的基板处理装置，其中，
5.如权利要求1所记载的基板处理装置，其中，
6.如权利要求1至5中任一项所记载的基板处理装置，其中，
7.如权利要求6所记载的基板处理装置，其中，
8.如权利要求1所记载的基板处理装置，其中，
9.如权利要求1所记载的基板处理装置，其中，
技术总结
基板处理装置(1)的载置单元(40)设置于处理区块(20)与分度器区块(10)之间的连接部。载置单元(40)保持从分度器区块(10)朝中央机械手(22)传递的未处理的基板(9)。此外，载置单元(40)保持从中央机械手(22)朝分度器区块(10)传递的处理完毕的基板(9)。第一阻隔部(51)可阻隔氧浓度比大气低的低氧氛围的分度器区块(10)以及载置单元(40)与搬运路径(23)之间的气体的移动，该搬运路径(23)在处理区块(20)中连接处理单元(21)以及载置单元(40)。由此，能抑制基板处理装置(1)中的基板(9)的氧化。
技术研发人员：藤木博幸,墨周武,伊东哲生,辻智,田锁学,后藤裕典
受保护的技术使用者：株式会社斯库林集团
技术研发日：
技术公布日：2024/12/2
文档序号 :
【 40202300 】
技术研发人员：藤木博幸,墨周武,伊东哲生,辻智,田锁学,后藤裕典
技术所有人：株式会社斯库林集团
备 注：该技术已申请专利，仅供学习研究，如用于商业用途，请联系技术所有人。
声 明 ：此信息收集于网络，如果你是此专利的发明人不想本网站收录此信息请联系我们，我们会在第一时间删除
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