用于微反射镜阵列的反射镜组件的制作方法

1.一种组件，包括：

2.根据权利要求1所述的组件，其中，所述可变形构件或每个可变形构件包括用于支撑所述第一致动器和第二致动器的主动部分的结构框架。

3.根据权利要求2所述的组件，其中，所述第一致动器和第二致动器的主动部分布置在所述结构框架的同一侧。

4.根据权利要求2或3所述的组件，其中，所述结构框架由硅形成。

5.根据权利要求2至4中的任一项所述的组件，其中，所述结构框架包括两个或更多个大致相互平行的梁部分的阵列，每对相邻的梁部分在一端处被连接在一起，其中，每个梁部分在任何给定端处仅连接到一个相邻的梁部分。

6.根据任一前述权利要求所述的组件，其中，所述可变形构件或每个可变形构件包括：

7.根据任一前述权利要求所述的组件，其中，所述第一致动器和第二致动器中的至少一个包括至少一个致动器部分，其中，每个这种致动器部分包括：柔性构件和设置在所述柔性构件的表面上并能够操作以使所述柔性构件扭曲的主动层。

8.根据权利要求7所述的组件，其中，所述第一致动器和第二致动器的致动器部分的主动层布置在所述结构框架的同一侧。

9.根据权利要求7或权利要求8所述的组件，其中，所述主动层或每个主动层能够被配置为处于至少第一标称状态和第二致动状态。

10.根据直接或间接地从属于权利要求5或权利要求6时的权利要求7至9中的任一项的所述的组件，其中，所述柔性构件或每个柔性构件包括梁部分。

11.根据直接或间接地从属于权利要求7时的任一前述权利要求所述的组件，其中，所述第一致动器包括多个致动器部分，并且其中，所述第二致动器包括多个致动器部分。

12.根据权利要求7至11中的任一项所述的组件，其中，所述主动层或每个主动层包括压电材料。

13.根据权利要求12所述的组件，其中，所述压电材料是锆钛酸铅。

14.根据权利要求7至13中的任一项所述的组件，其中所述主动层或每个主动层包括具有与所述梁部分的热膨胀系数不同的热膨胀系数并且能够经受电热致动的材料。

15.根据任一前述权利要求所述的组件，其中，所述组件包括多个可变形构件，所述多个可变形构件中的至少两个可变形构件的第二端附接到所述反射镜的不同部分。

16.根据任一前述权利要求所述的组件，其中，所述组件包括四个可变形构件。

17.根据权利要求16所述的组件，其中，所述四个可变形构件按4阶旋转对称布局排列。

18.根据权利要求16或权利要求17所述的组件，其中，所述四个可变形构件包括两对相对的可变形构件，并且其中，每对相对的可变形构件被布置为接收共享的控制信号。

19.根据任一前述权利要求所述的组件，其中，所述可变形构件或每个可变形构件在近端附接到所述反射镜的反射表面的外边缘。

20.根据任一前述权利要求所述的组件，其中，所述可变形构件或每个可变形构件的所述支撑部分是刚性的。

21.根据任一前述权利要求所述的组件，其中，所述可变形构件或每个可变形构件通过一个或更多个支柱附接到所述反射镜。

22.根据权利要求21所述的组件，其中，所述支柱或每个支柱由具有比通过所述支柱连接到所述反射镜的所述可变形构件的热阻高的热阻的材料形成。

23.根据任一前述权利要求所述的组件，还包括常平架，所述常平架的第一端附接到所述反射镜。

24.一种微反射镜阵列，包括：

25.一种可编程照射器，包括：

26.一种光刻设备，包括根据权利要求25所述的可编程照射器。

27.一种检查和/或量测设备，包括根据权利要求25所述的可编程照射器。

28.一种形成一组件的方法，所述方法包括：

29.根据权利要求28所述的方法，其中，所述组件是根据权利要求1至23中的任一项所述的组件。

30.根据权利要求28或权利要求29所述的方法，其中，提供所述一个或更多个可变形构件中的每个可变形构件包括：

31.根据权利要求30所述的方法，其中，所述结构框架或每个结构框架包括两个或更多个大致相互平行的梁部分的阵列，每对相邻的梁部分在一端处被连接在一起，其中，每个梁部分在任何给定端处仅连接到一个相邻的梁部分。

32.根据权利要求30所述的方法，其中，所述结构框架或每个结构框架包括：

33.根据权利要求30至32中的任一项所述的方法，还包括将所述一个或更多个结构框架中的每个结构框架的一端连接到刚性支撑部分。

34.根据权利要求30至33中的任一项所述的方法，其中，将所述一个或更多个可变形构件中的每个可变形构件的第二端附接到所述反射镜包括通过一个或更多个支柱将所述结构框架的一端附接到所述反射镜。

35.一种形成微反射镜阵列的方法，所述方法包括：

36.根据权利要求35所述的方法，其中，提供根据权利要求1至23中的任一项所述的多个组件的步骤包括根据权利要求28至34中的任一项所述的方法。