膜面物理性能更优的AR膜及其制备工艺的制作方法

本发明属于光学膜，具体涉及膜面物理性能更优的ar膜及其制备工艺。

背景技术：

1、ar膜，即减反射膜，能够通过减少反射损耗，提高透射率和光学性能，主要原理是利用不同光学材料产生的干涉效果来消除入射光和反射光，从而达到防反射功能。在ar膜的应用中，随着ar技术应用领域的增加，未来ar产品将逐渐成为车载产品市场的主流，因此ar膜的开发和生产是大势所趋。

2、在车载屏上贴合ar膜，能够降低光线到达屏幕的反射率，阻隔太阳光中的紫外光，同时，能够提高车载显示屏的透过率，增加对比度，让驾驶者在驾驶过程中能够清楚的看到屏幕上的内容，免受屏幕光反射的影响，确保了驾驶安全性。

3、随着ar膜应用的不断发展，人们对ar膜的要求也不仅仅满足于高透光率和低反射率，对膜面的耐磨性和耐高温性能也提出了更高的要求，因此需要进一步提高ar膜的使用性能。

4、公开于该背景技术部分的信息仅仅旨在增加对本发明的总体背景的理解，而不应当被视为承认或以任何形式暗示该信息构成已为本领域一般技术人员所公知的现有技术。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供膜面物理性能更优的ar膜及其制备工艺，ar膜具有优良的耐磨性和耐高温性能，整体使用性能较高。

2、为了实现上述目的，本发明一具体实施例提供的技术方案如下：

3、膜面物理性能更优的ar膜，包括基材层，所述基材层上依次设有上涂布层、氮化硅层、第一氧化铌层、二氧化硅层、第二氧化铌层、硅铝混合层和抗划伤层，所述氮化硅层厚度为1～30nm。

4、在本发明的一个或多个实施例中，所述上涂布层和氮化硅层之间还设有打底层，所述打底层材质选自sio2、ti、si、al、mgf2、sio、sn和y。

5、在本发明的一个或多个实施例中，所述打底层厚度为0.1～10nm。

6、在本发明的一个或多个实施例中，所述第一氧化铌层厚度为1～50nm。

7、在本发明的一个或多个实施例中，所述二氧化硅层厚度为10～260nm。

8、在本发明的一个或多个实施例中，所述第二氧化铌层厚度为5～280nm。

9、在本发明的一个或多个实施例中，所述硅铝混合层厚度为50～310nm；和/或，

10、所述硅铝混合层中硅铝摩尔比，以硅铝原子计为(85～98)：(15～2)。

11、在本发明的一个或多个实施例中，所述抗划伤层由涂布af涂布液形成，厚度为2～190nm。

12、本发明另一具体实施例提供的技术方案如下：

13、膜面物理性能更优的ar膜的制备工艺，包括以下步骤：

14、在基材层的双面分别涂布下涂布层和上涂布层，在下涂布层上设置高温保护膜；

15、在上涂布层上依次镀设氮化硅层、第一氧化铌层、二氧化硅层、第二氧化铌层、硅铝混合层；其中，氮化硅层厚度为1～30nm；

16、在硅铝混合层上设置抗划伤层；

17、在抗划伤层上设置正保护膜。

18、在本发明的一个或多个实施例中，上涂布层和氮化硅层之间还镀设有打底层。

19、与现有技术相比，本发明通过设置氮化硅层，同时结合各层之间的配合，使得制备得到的ar膜具备较佳的光学性能，同时耐磨性、耐高温性优良，呈现出较优的使用性能。

1.一种膜面物理性能更优的ar膜，其特征在于，包括基材层，所述基材层上依次设有上涂布层、氮化硅层、第一氧化铌层、二氧化硅层、第二氧化铌层、硅铝混合层和抗划伤层，所述氮化硅层厚度为1～30nm。

2.根据权利要求1所述的膜面物理性能更优的ar膜，其特征在于，所述上涂布层和氮化硅层之间还设有打底层，所述打底层材质选自sio2、ti、si、al、mgf2、sio、sn和y。

3.根据权利要求2所述的膜面物理性能更优的ar膜，其特征在于，所述打底层厚度为0.1～10nm。

4.根据权利要求1所述的膜面物理性能更优的ar膜，其特征在于，所述第一氧化铌层厚度为1～50nm。

5.根据权利要求1所述的膜面物理性能更优的ar膜，其特征在于，所述二氧化硅层厚度为10～260nm。

6.根据权利要求1所述的膜面物理性能更优的ar膜，其特征在于，所述第二氧化铌层厚度为5～280nm。

7.根据权利要求1所述的膜面物理性能更优的ar膜，其特征在于，所述硅铝混合层厚度为50～310nm；和/或，

8.根据权利要求1所述的膜面物理性能更优的ar膜，其特征在于，所述抗划伤层由涂布af涂布液形成，厚度为2～190nm。

9.一种膜面物理性能更优的ar膜的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：

10.根据权利要求9所述的膜面物理性能更优的ar膜的制备工艺，其特征在于，上涂布层和氮化硅层之间还镀设有打底层。