阵列基板的制备方法、显示面板及显示装置与流程

本申请属于显示，具体涉及一种阵列基板的制备方法、显示面板及显示装置。

背景技术：

1、随着显示技术的发展，液晶显示面板(liquid crystal display，lcd)因其成本低、技术成熟备受消费者的喜爱，尤其是轻薄化的显示面板。轻薄化的显示面板在成盒后要经过薄化处理，使得基板玻璃变薄从而降低显示面板的整体厚度。

2、现有的lcd显示面板通常在阵列基板和对置基板中间设计有支撑柱(photospacer，ps)，从而对显示面板起到支撑作用。但是，受外力影响(薄化或运输颠簸等)容易使支撑柱划伤阵列基板侧的配向膜，使配向膜被划伤失去配向能力，导致液晶排列紊乱，造成划伤处透过率增加，进而产生红蓝斑等问题。

技术实现思路

1、本申请的目的在于提供一种阵列基板的制备方法、显示面板及显示装置，能够改善支撑柱划伤配向膜之后所产生的红蓝斑显示不良问题。

2、本申请第一方面提供了一种阵列基板的制备方法，包括如下步骤：

3、在衬底基板上形成第一金属层，并对所述第一金属层进行图案化处理，以形成栅极；

4、在所述衬底基板上依次形成栅绝缘层和半导体层，所述栅绝缘层覆盖所述栅极；

5、在所述栅绝缘层和所述半导体层上沉积第二金属层，并对所述第二金属层进行图案化处理，以形成相互间隔设置的第一极和第二极，所述第一极和所述第二极分别搭接于所述半导体层的相对两侧；

6、在所述栅绝缘层和所述半导体层上形成钝化层，所述钝化层覆盖所述第一极和第二极；

7、在所述钝化层上沉积平坦层，并对所述平坦层进行图案化处理，以形成凹槽和通孔，所述通孔露出所述第一极的部分；

8、在所述平坦层上形成像素电极，所述像素电极通过所述通孔与所述第一极连接；

9、在所述平坦层上涂布光引发剂；

10、涂布配向膜，所述配向膜遮盖所述平坦层上的所述光引发剂。

11、在本申请的一种示例性实施例中，在所述平坦层上进行图案化处理，形成所述凹槽的制备方法包括：

12、对所述平坦层进行曝光处理，以形成所述凹槽和所述通孔。

13、在本申请的一种示例性实施例中，在所述平坦层上涂布所述光引发剂之后，所述制备方法还包括：

14、对位于所述凹槽外的所述光引发剂进行光处理，以使位于所述凹槽外的所述光引发剂失去活性。

15、本申请第二方面提供了一种显示面板，包括对置基板、液晶层、支撑柱和如上述任一项所述的制备方法制备的阵列基板，所述阵列基板与所述对置基板对盒设置，所述阵列基板与所述对置基板之间设有所述液晶层和所述支撑柱，所述支撑柱设于所述对置基板侧，并向所述阵列基板侧延伸设置；所述阵列基板包括衬底基板以及设于所述衬底基板上的栅极、栅绝缘层、半导体层、第一极、第二极、钝化层和像素电极，所述栅极设于所述衬底基板上，所述栅极和所述半导体层之间设有所述栅绝缘层，所述第一极和所述第二极搭接于所述半导体层的两端，所述钝化层设于所述栅绝缘层远离所述衬底基板的一侧，且所述钝化层覆盖所述第一极、第二极和半导体层；所述液晶层包括液晶分子和反应件；所述阵列基板还包括：

16、平坦层，所述平坦层设于所述钝化层远离所述衬底基板的一侧，所述平坦层上设有凹槽和过孔，所述过孔漏出所述第一极的部分，所述像素电极通过所述过孔与所述第一极连接，所述凹槽与所述支撑柱一一对应，所述凹槽内填充光引发剂，所述光引发剂能够在光照的作用下与所述反应件反应形成对所述液晶分子具有配向力的补充配向膜；

17、配向膜，所述配向膜设于所述平坦层远离所述衬底基板的一侧，且所述配向膜遮盖所述凹槽。

18、在本申请的另一种示例性实施例中，所述支撑柱在所述衬底基板上的正投影位于所述凹槽在所述衬底基板上的正投影内。

19、在本申请的另一种示例性实施例中，在所述衬底基板至所述平坦层的方向上，所述凹槽的横截面积逐渐增大。

20、在本申请的另一种示例性实施例中，所述凹槽包括倾斜部和缓平部，所述缓平部与所述支撑柱相对设置，所述支撑柱在所述衬底基板上的正投影位于所述缓平部在所述衬底基板上的正投影内；所述倾斜部环绕所述缓平部的边缘设置，所述倾斜部远离所述缓平部的一侧与所述配向膜抵接。

21、在本申请的另一种示例性实施例中，所述凹槽的深度h小于所述平坦层的厚度d；且所述凹槽的深度h与所述平坦层的厚度d满足以下关系：

22、1/5d≤h≤d。

23、在本申请的另一种示例性实施例中，所述对置基板包括基底和设于所述基底上的色阻层，所述色阻层包括颜色色阻和黑矩阵，相邻所述颜色色阻的颜色不相同，且相邻颜色色阻之间设有所述黑矩阵；

24、所述支撑柱设于所述色阻层远离所述基底的一侧，且所述支撑柱设于所述黑矩阵上，所述支撑柱在所述基底上的正投影位于所述黑矩阵在所述基底上的正投影内；

25、所述黑矩阵在所述衬底基板上的正投影位于所述凹槽在所述衬底基板上的正投影内。

26、本申请第三方面提供了一种显示装置，所述显示装置包括背光模组及上述任一项所述的显示面板，所述显示面板设于所述背光模组的出光侧。

27、本申请方案包括的阵列基板的制备方法、显示面板及显示装置至少具有以下有益效果：

28、通过在阵列基板侧设置与支撑柱对应的凹槽，且凹槽内填充有光活性剂，光活性剂能够在光照作用下与液晶层中的反应件发生反应而产生具有配向力的补充配向膜，在阵列基板侧的配向膜未被支撑柱划伤时，此液晶分子的配向依靠配向膜来进行配向；当阵列基板侧的配向膜因支撑柱的摩擦而被划伤时，此位于凹槽内的光活性剂显露出，并在光照作用下使光活性剂与液晶层中的反应件发生反应，产生能够对液晶分子进行配向的补充配向膜，利用此补充配向膜对液晶分子进行补充配向，不会使得在配向膜划伤处的液晶分子发生紊乱，保证配向膜划伤处的液晶分子有序排列，改善红蓝斑不良等问题，进而提高显示面板和显示装置的显示效果。

29、本申请的其他特性和优点将通过下面的详细描述变得显然，或部分地通过本申请的实践而习得。

30、应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本申请。

1.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述平坦层上进行图案化处理，形成所述凹槽的制备方法包括：

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，在所述平坦层上涂布所述光引发剂之后，所述制备方法还包括：

4.一种显示面板，包括对置基板、液晶层、支撑柱和如权利要求1至3任一项所述的制备方法制备的阵列基板，所述阵列基板与所述对置基板对盒设置，所述阵列基板与所述对置基板之间设有所述液晶层和所述支撑柱，所述支撑柱设于所述对置基板侧，并向所述阵列基板侧延伸设置；所述阵列基板包括衬底基板以及设于所述衬底基板上的栅极、栅绝缘层、半导体层、第一极、第二极、钝化层和像素电极，所述栅极设于所述衬底基板上，所述栅极和所述半导体层之间设有所述栅绝缘层，所述第一极和所述第二极搭接于所述半导体层的两端，所述钝化层设于所述栅绝缘层远离所述衬底基板的一侧，且所述钝化层覆盖所述第一极、第二极和半导体层；其特征在于，所述液晶层包括液晶分子和反应件；所述阵列基板还包括：

5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述支撑柱在所述衬底基板上的正投影位于所述凹槽在所述衬底基板上的正投影内。

6.根据权利要求5所述的显示面板，其特征在于，在所述衬底基板至所述平坦层的方向上，所述凹槽的横截面积逐渐增大。

7.根据权利要求6所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽包括倾斜部和缓平部，所述缓平部与所述支撑柱相对设置，所述支撑柱在所述衬底基板上的正投影位于所述缓平部在所述衬底基板上的正投影内；所述倾斜部环绕所述缓平部的边缘设置，所述倾斜部远离所述缓平部的一侧与所述配向膜抵接。

8.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述凹槽的深度h小于所述平坦层的厚度d；且所述凹槽的深度h与所述平坦层的厚度d满足以下关系：

9.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述对置基板包括基底和设于所述基底上的色阻层，所述色阻层包括颜色色阻和黑矩阵，相邻所述颜色色阻的颜色不相同，且相邻颜色色阻之间设有所述黑矩阵；

10.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括背光模组及权利要求4至9任一项所述的显示面板，所述显示面板设于所述背光模组的出光侧。