一种光学元件及成像干预装置的制作方法
技术特征:
1.一种光学元件,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的光学元件,其特征在于,所述微结构单元为凸起,所述凸起远离所述本体的面为所述调节面,所述调节面位于所述第一光学表面远离所述第二光学表面的一侧和/或所述调节面位于所述第二光学表面远离所述第一光学表面的一侧;
3.根据权利要求1所述的光学元件,其特征在于,所述微结构单元为凹槽,所述凹槽具有开口和与所述开口相对的底壁;所述底壁为所述调节面,所述调节面位于所述第一光学表面与所述第二光学表面之间;所述开口沿所述厚度方向贯穿所述第一光学表面和/或所述第二光学表面;
4.根据权利要求2或3所述的光学元件,其特征在于,所述凹陷部和所述凸出部间隔设置;或者,
5. 根据权利要求4所述的光学元件,其特征在于,所述凹陷部设有多个,所述凸出部设有多个;
6.根据权利要求4所述的光学元件,其特征在于,所述调节面的形状为波浪状或锯齿状;或者
7.根据权利要求4所述的光学元件,其特征在于,所述调节面产生漫反射时的漫反射系数为,所述漫反射系数进一步满足:0.17<≤0.6,且;
8.根据权利要求7所述的光学元件,其特征在于,所述微结构单元为凸起时,α进一步满足:
9.根据权利要求7所述的光学元件,其特征在于,所述微结构单元为凹槽时,α进一步满足:
10. 根据权利要求7所述的光学元件,其特征在于,所述凸出部与所述本体的表面在所述厚度方向上具有最大高度h μm;所述侧面与所述本体的表面之间的角度为β;所述微结构单元的直径为d mm;所述光学元件进一步满足:
11.根据权利要求10所述的光学元件,其特征在于,所述光学元件满足如下特征中的至少一者:
12.根据权利要求1所述的光学元件,其特征在于,所述微结构单元之间彼此间隔设置;或者
13. 根据权利要求12所述的光学元件,其特征在于,相邻所述微结构单元之间的距离为d mm,所述微结构单元的直径为d mm,满足:
14.一种成像干预装置,其特征在于,所述成像干预装置包括权利要求1-13中任一项所述的光学元件。
技术总结
本申请公开了一种光学元件及成像干预装置,包括:本体,本体具有径向方向X和与径向方向X垂直的厚度方向Y,本体包括沿厚度方向相对的第一光学表面和第二光学表面;多个微结构单元,多个微结构单元设于本体上,并沿径向方向X设置;微结构单元包括调节面,调节面与第一光学表面、第二光学表面中的至少一者在厚度方向Y上间隔设置;调节面的表面粗糙度Raμm满足:0.012≤Ra≤100;调节面用于使光线入射时发生漫反射并加剧能量损失,且光线通过调节面后无法在任意位置完整聚焦。本申请的光学元件通过设置具有使光线发生漫反射现象的调节面,使光线在任意位置均无法聚焦成像,光学元件可以通过产生能量损失以干预屈光不正的发展。
技术研发人员:沈悦晨,侯佳玲,冯涛,余浩墨
受保护的技术使用者:苏州明世光学科技有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/11/28
技术研发人员:沈悦晨,侯佳玲,冯涛,余浩墨
技术所有人:苏州明世光学科技有限公司
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