一种基于Ta3N5-MoSx异质结的光催化复合材料的制备方法

本发明涉及光催化复合材料制备,尤其涉及一种基于ta3n5-mosx异质结的光催化复合材料的制备方法。
背景技术:
1、光催化复合材料可以将太阳能转化为化学能,用于产生氢气,是一种清洁能源。ta3n5是一种潜在的太阳能光催化降解材料,它的带隙在2.1ev左右,能够有效地吸收可见光,覆盖了太阳光光谱的大部分区域,从外,ta3n5还是一种环境友好的材料,当ta3n5吸收光子后,价带中的电子被激发到导带,形成电子-空穴对,产生的光生载流子是光催化反应的活性中间体,能参与氧化还原反应,降解有机污染物或分解水,符合绿色发展的理念。
2、现有技术如申请号为cn201910711970.5的专利公开了一种绣花球状ta3n5/mos2异质结光催化材料及其制备方法,ta3n5/mos2呈现出绣花球状,ta3n5纳米棒被均匀的包裹在二维mos2层间,且ta3n5与mos2之间形成紧密接触的异质结。通过ta3n5与mos2构建的异质结光催化剂能有加速光生电荷从ta3n5转移至mos2,降低光生电荷在ta3n5体相内的复合。但是上述方案中未提及理化性质可调控的mosx与ta3n5复合成异质结的方法,材料的吸光率以及光电性也有待提升。
技术实现思路
1、为了解决上述背景技术中的问题,本发明提供了一种基于ta3n5-mosx异质结的光催化复合材料的制备方法,通过其制得的光催化复合材料的吸光率高,光电性能优异。
2、本发明解决其技术问题所采取的方案是:一种基于ta3n5-mosx异质结的光催化复合材料的制备方法,包括步骤:
3、步骤一,ta3n5纳米颗粒的制备;
4、步骤二,mosx的制备;
5、步骤三,ta3n5/mosx的制备;
6、所述步骤二,mosx的制备方法如下:
7、1)往去离子水中加入的钼酸铵和的硫脲,随后在室温下以300r/min的搅拌速度搅拌均匀,得到混合液b,所述去离子水的体积(ml)、钼酸铵的质量(g)、硫脲的质量(g)的比值为60:1.75:3.8;
8、2)往混合液b中加入1.25g聚乙烯吡咯烷酮,搅拌均匀,得到均相溶液;
9、3)将均相溶液转移至80ml内衬聚四氟乙烯的反应釜中进行密封反应,反应温度为200℃,反应时间为24h,获得反应物一;
10、4)对反应物一进行离心分离,获得沉淀物b,再将沉淀物b分别放入无水乙醇和去离子水中进行冲洗,随后进行干燥收集,得到mosx。
11、进一步的,所述步骤一,ta3n5纳米颗粒的制备方法如下:
12、1)将氯化钽和甲醇混合在一起,搅拌均匀,得到混合液a,再将混合液a加入到质量百分比为19%的50ml的氨水中,随后以400r/min的搅拌速度搅拌1h,得到沉淀物a,所述氯化钽的质量(g)与甲醇的体积(ml)的比值为1:10;
13、2)用水洗涤沉淀物a,随后过滤,再将过滤后的沉淀物a在通有空气的条件下进行加热,加热温度为800℃,加热时间为6h,得到五氧化二钽纳米颗粒;
14、3)称取500mg五氧化二钽纳米颗粒,将其放入真空管式炉中,并在通有n2的条件下进行密封煅烧,煅烧前真空管式炉内的真空度小于100pa,n2的流量为10l/min,并以800℃恒温煅烧6h,自然冷却后,得到固体粉末ta3n5纳米颗粒。
15、进一步的,所述真空管式炉的煅烧升温速率为5~10℃/min。
16、进一步的,所述钼酸铵包括无水钼酸铵和水合钼酸铵。
17、进一步的,所述步骤三,ta3n5/mosx的制备方法如下:
18、1)将mosx放入去离子水中,进行超声,超声频率为40mhz,超声时间为30~60min,获得混合液c,所述mosx的质量(g)去离子水的体积(ml)的比值为0.04:20;
19、2)将ta3n5分散到去离子水中,在400r/min的搅拌速度下搅拌20min,获得混合液d,所述ta3n5的质量(g)去离子水的体积(ml)的比值为0.15:30;
20、3)将混合液c与混合液d转移到80ml特氟龙反应釜中,随后在烘箱中进行加热,加热温度为160~240℃,加热时间为16~24h,反应结束后获得反应物二;
21、4)对反应物二进行离心分离,得到沉淀物c,再将沉淀物c分别放入无水乙醇和去离子水中进行冲洗,随后在60℃下干燥6h,得到ta3n5/mosx粉末。
22、综上所述,本发明的有益效果为:本发明的基于ta3n5-mosx异质结的光催化复合材料的吸光率高,光电性能优异。
23、上述说明仅是本发明的技术方案的概述,为了能够更清楚了解本发明的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并且为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂,以下特举较佳实施例,并配合附图,详细说明如下。
技术特征:
1.一种基于ta3n5-mosx异质结的光催化复合材料的制备方法,其特征在于,包括步骤:
2.根据权利要求1所述的一种基于ta3n5-mosx异质结的光催化复合材料的制备方法,其特征在于,所述步骤一,ta3n5纳米颗粒的制备方法如下:
3.根据权利要求2所述的一种基于ta3n5-mosx异质结的光催化复合材料的制备方法,其特征在于,所述真空管式炉的煅烧升温速率为5~10℃/min。
4.根据权利要求1所述的一种基于ta3n5-mosx异质结的光催化复合材料的制备方法,其特征在于,所述钼酸铵包括无水钼酸铵和水合钼酸铵。
5.根据权利要求2所述的一种基于ta3n5-mosx异质结的光催化复合材料的制备方法,其特征在于,所述步骤三,ta3n5/mosx的制备方法如下:
技术总结
本发明涉及光催化复合材料制备技术领域,尤其涉及一种基于Ta<subgt;3</subgt;N<subgt;5</subgt;‑MoS<subgt;x</subgt;异质结的光催化复合材料的制备方法,包括步骤:步骤一,Ta<subgt;3</subgt;N<subgt;5</subgt;纳米颗粒的制备;步骤二,MoS<subgt;x</subgt;的制备;步骤三,Ta3N5/MoSx的制备。本发明基于Ta<subgt;3</subgt;N<subgt;5</subgt;‑MoS<subgt;x</subgt;异质结的光催化复合材料的制备方法所制得的光催化复合材料的吸光率高,光电性能优异。
技术研发人员:张颖鹤,朱志远,杨磊,李志洋,刘文杰
受保护的技术使用者:哈尔滨工业大学(深圳)(哈尔滨工业大学深圳科技创新研究院)
技术研发日:
技术公布日:2024/11/28
技术研发人员:张颖鹤,朱志远,杨磊,李志洋,刘文杰
技术所有人:哈尔滨工业大学(深圳)(哈尔滨工业大学深圳科技创新研究院)
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