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液体容器和液体补充系统的制作方法

2026-01-20 11:00:07 125次浏览
液体容器和液体补充系统的制作方法

本发明涉及一种液体容器和液体补充系统。


背景技术:

1、已知一种可为容纳液体的液罐补充液体的液体容器。液体由诸如喷墨记录装置等包括液体排放头的液体排放装置(图像记录装置)使用。例如,液体容器包括排出口,液体通过所述排出口被注入到液罐中。液体排放装置内部的液罐包括延伸并具有使内部与外部连通的流路的针,并且可通过将液罐的针插入到液体容器的排出口中来为液罐补充液体。在此类液体容器中,如日本专利申请特开no.2017-222152中所讨论,为了防止用户的手和用户周围的物体变脏,在排出口的前端布置具有狭缝的阀,以防止液体泄漏。通过将针插入到液体容器的排出口中打开阀,并且为液罐补充液体。

2、日本专利申请特开no.2017-222152还讨论了当将液体从液体容器注入到液罐时,由于阀在相对于液罐定位的状态下打开,因此避免了阀打开时可能发生的诸如液体泄漏等问题。

3、此外,日本专利申请特开no.2017-222152还论述了以下构造,其中,上述液体容器的定位部由与排出口形成部分开的构件形成,以增加定位部和排出口形成部的设计自由度,并且其中,液罐具有凹陷部,所述凹陷部在从排出口形成部径向延伸的区域中沿与针的方向相同的方向开口,并且液体容器的定位部具有突出部,所述突出部在排出口的外部并以排出口作为中心沿径向方向延伸的区域中与凹陷部卡合。使用此构造,在液罐的凹陷部与液体容器的突出部未彼此卡合的情况下,不会将针插入到排出口中,并且不会为液罐补充液体,从而防止不当的液体补充。

4、此外,在日本专利申请特开no.2017-222152中所论述的构造具有以下优点:无论液体的类型如何都使用共用排出口形成构件和共用阀构件并且依据液体的类型仅适当地更换比排出口形成构件的尺寸小的定位构件,来在制造过程中减少库存和空间。


技术实现思路

1、根据本发明的一个方面,提供一种液体容器,所述液体容器包括:液体容纳构件,所述液体容纳构件包括:液体容纳部,所述液体容纳部被构造为容纳液体;排出部,所述排出部包括被构造为排放从中流经的所述液体容纳部中容纳的所述液体的排出口;以及保护部,所述保护部被构造为覆盖所述排出部的所述排出口;以及盖构件,所述盖构件被构造为,能够附接到所述液体容纳构件和从所述液体容纳构件拆除,以在将所述盖构件附接到所述液体容纳构件时,防止所述液体从所述排出部泄漏,其中,所述盖构件包括基于日本工业标准(jis)k7136雾度值大于等于14%且小于等于96%的树脂,其中,所述盖构件的顶部表面的厚度小于等于3.0mm,其中,所述盖构件的所述顶部表面基于jis b 0601的最大高度粗糙度小于等于50μm,其中,当将所述盖构件的所述顶部表面的背面定义为第一表面并且将所述保护部面对所述第一表面的表面定义为第二表面时,所述第二表面在国际照明委员会(cie)l*a*b*颜色空间中的l*值大于等于5且小于等于35,并且其中,所述第一表面与所述第二表面之间的最短距离大于等于0.4mm且小于等于2.0mm。

2、通过以下参照附图对示例性实施例的描述,本发明的其他特征将变得明显。



技术特征:

1.一种液体容器,所述液体容器包括:

2.根据权利要求1所述的液体容器,其中,所述盖构件的所述第一表面基于jis b 0601的最大高度粗糙度rz小于等于50μm。

3.根据权利要求1所述的液体容器,其中,所述盖构件包括基于jis k7136雾度值大于等于85%且小于等于96%的树脂。

4.根据权利要求1所述的液体容器,其中,所述盖构件的所述顶部表面的所述厚度大于等于1.5mm且小于等于2.5mm。

5.根据权利要求1所述的液体容器,其中,所述液体为墨水。

6.一种液体补充系统,所述液体补充系统包括:

7.一种液体容器,所述液体容器包括:

8.一种液体容器,所述液体容器包括:


技术总结
本发明提供一种液体容器和液体补充系统。盖构件被构造为可从所述液体容器移除,其中,所述盖构件包括雾度值大于等于14%且小于等于96%的树脂,其中,所述盖构件的顶部表面的厚度小于等于3.0mm,其中,所述盖构件的所述顶部表面的最大高度粗糙度Rz小于等于50μm,其中,当将所述盖构件的所述顶部表面的背面定义为第一表面并且将保护部面对所述第一表面的表面定义为第二表面时,所述第二表面在CIE L*a*b*颜色空间中的L*值大于等于5且小于等于35,并且其中所述第一表面与所述第二表面之间的最短距离大于等于0.4mm且小于等于2.0mm。

技术研发人员:布施能登,北濑雄士,井上良二,小原学,永井议靖
受保护的技术使用者:佳能株式会社
技术研发日:
技术公布日:2024/11/28
文档序号 : 【 40165652 】

技术研发人员:布施能登,北濑雄士,井上良二,小原学,永井议靖
技术所有人:佳能株式会社

备 注:该技术已申请专利,仅供学习研究,如用于商业用途,请联系技术所有人。
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布施能登北濑雄士井上良二小原学永井议靖佳能株式会社
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