一种静电吸附装置的制作方法

1.一种静电吸附装置，其特征在于，所述静电吸附装置包括：绝缘介质层（20）、第一电极区和第二电极区，所述绝缘介质层（20）预设高度的横截面为圆形平面；

2.根据权利要求1中所述的静电吸附装置，其特征在于，每组所述第一圆弧部均分布在其对应连接的所述第一分支部（312）沿所述圆形平面的第一圆周方向（13）的同侧；每组所述第二圆弧部均分布在其对应连接的所述第二分支部（322）沿所述圆形平面的第二圆周方向（14）的同侧；所述第一圆周方向（13）和所述第二圆周方向（14）中一个为顺时针方向，另一个为逆时针方向。

3.根据权利要求1中所述的静电吸附装置，其特征在于，每组所述第一圆弧部分布在其对应连接的所述第一分支部（312）沿所述圆形平面第一圆周方向（13）的一侧和沿所述圆形平面第二圆周方向（14）的一侧；每组所述第二圆弧部分布在其对应连接的所述第二分支部（322）沿所述圆形平面第一圆周方向（13）的一侧和沿所述圆形平面第二圆周方向（14）的一侧；所述第一圆周方向（13）和所述第二圆周方向（14）中一个为顺时针方向，另一个为逆时针方向。

4.根据权利要求1-3中任意一项所述的静电吸附装置，其特征在于，所述第一分支部（312）和所述第二分支部（322）所在的所述圆形平面径向（11）上存在避空区域（33），靠近所述避空区域（33）的所述第一圆弧电极（311）、所述第二圆弧电极（321）、所述第一分支部（312）和所述第二分支部（322）进行避位变形设置以得到设置所述避空区域（33）的空间。

5.根据权利要求1-3中任意一项所述的静电吸附装置，其特征在于，所述中心电极部（35）内部为空心孔（34）。

6.根据权利要求1-3中任意一项所述的静电吸附装置，其特征在于，所述中心电极部（35）为有一个开口的优弧；或所述中心电极部（35）为一个整圆环形；

7.根据权利要求1-3中任意一项所述的静电吸附装置，其特征在于，所述第一电极区和所述第二电极区的面积比大于0且小于等于10，或所述第二电极区和所述第一电极区的面积比大于0且小于等于10。

8.根据权利要求1-3中任意一项所述的静电吸附装置，其特征在于，所述第一电极区和所述第二电极区的面积比等于1。

9.根据权利要求1-3中任意一项所述的静电吸附装置，其特征在于，每个所述第一圆弧电极（311）沿所述圆形平面的径向（11）长度大于等于0.3毫米且小于0.5毫米，每个所述第二圆弧电极（321）沿所述圆形平面的径向（11）长度大于等于0.3毫米且小于0.5毫米。

10.根据权利要求1-3中任意一项所述的静电吸附装置，其特征在于，每个所述第一圆弧电极（311）沿所述圆形平面的径向（11）长度等于每个所述第二圆弧电极（321）沿所述圆形平面的径向（11）长度。

11.根据权利要求1-3中任意一项所述的静电吸附装置，其特征在于，各个沿所述圆形平面的径向（11）相邻的所述第一圆弧电极（311）和所述第二圆弧电极（321）之间的间隔距离相等。

12.根据权利要求1-3中任意一项所述的静电吸附装置，其特征在于，各个沿所述圆形平面的径向（11）相邻的所述第一圆弧电极（311）和所述第二圆弧电极（321）之间的间隔距离均大于等于0.5毫米且小于等于10毫米。

13.根据权利要求1-3中任意一项所述的静电吸附装置，其特征在于，所述静电吸附装置还包括保护层，所述保护层覆盖于所述绝缘介质层（20）上方，所述保护层用于与所述静电吸附装置用于吸附的待吸附基体（40）接触，所述保护层的体电阻率大于等于1014ω·cm。

14.根据权利要求1-3中任意一项所述的静电吸附装置，其特征在于，所述绝缘介质层（20）的体电阻率大于等于1014ω·cm。