一种低应力切削刀具涂层的制备方法与流程

1.一种低应力切削刀具涂层的制备方法，其特征在于，主要包括以下步骤：

2.如权利要求1所述的低应力切削刀具涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中对基体进行预处理的过程为：先对基体进行机械打磨，然后对打磨后的基体进行抛光，接着对抛光后的基体进行超声清洗处理，再将超声清洗处理后的基体进行干燥处理。

3.如权利要求2所述的低应力切削刀具涂层的制备方法，其特征在于：所述机械打磨是选用150#～2300#水砂纸进行打磨；所述抛光是采用0.2μm～0.4μm金刚石抛光膏进行抛光。

4.如权利要求2所述的低应力切削刀具涂层的制备方法，其特征在于，所述基体进行超声清洗处理的过程为：先将基体在丙酮中进行超声清洗10min～20min去污，接着在去离子水中超声清洗3min～10min过水，最后在乙醇中超声清洗5min～15min脱水。

5.如权利要求1所述的低应力切削刀具涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)的具体过程为：首先，将真空室抽至真空度为1×10-3pa～5×10-3pa，通入150～200sccm高纯氩气，真空室的主阀角度调至40％～60％，使其工作真空为1.0～1.5pa，打开加载在基体上的直流偏压电源，在基体上施加-800v～-600v的偏压，使用cr靶溅射，时间为10min～20min，以清洗其表面，清洗时基体表面背对着cr靶；随后关闭偏压电源，打开直流的cr靶电源，直流电源采用的是恒流模式，设置直流电源的电流参数为1a～3a，将氩气流量调至120～200sccm，主阀角度调至70％～90％，使工作真空为0.4～0.6pa，溅射10～15min，以实现靶材清洗。

6.如权利要求1所述的低应力切削刀具涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)的具体过程为：在真空室内,将通入真空室内的氩气流量保持在120～150sccm，设置真空室的主阀角度在70％～90％，设置工作真空气压在0.4～0.6pa，cr靶接入高功率脉冲电源，通过转动装置将基体的表面转至cr靶正对面，此时设置cr靶和基体的距离在70mm～100mm，设置cr靶的电源参数为电压700～800v、脉宽80～100μs、频率80～100hz,设置基体的偏压为-100～-150v，对基体的表面溅射10～20min，以沉积一层cr过渡层。

7.如权利要求1所述的低应力切削刀具涂层的制备方法，其特征在于，所述步骤(4)的具体过程为：先向真空室内通入高纯氮气，且通入高纯氮气与高纯氩气的流量比范围在1:12～1:6；接着设置cr靶的电源电压在600～800v、脉宽在60～100μs、频率在100～260hz,使cr靶的电源的平均功率在0.7～1kw；设置基体偏压在-80v～-120v；设置真空室的真空工作气压在0.4～0.6pa；设置cr靶和基体的距离为70～90mm；然后利用cr靶在沉积完cr过渡层的基体表面溅射40～60min,以沉积得到crn涂层。

8.如权利要求1所述的低应力切削刀具涂层的制备方法，其特征在于:所述步骤(5)中是将沉积完cr过渡层和crn涂层后得到的基体在真空室内冷却30～60min后取出，最终在基体的表面制得低应力cr-crn复合涂层。

9.如权利要求1所述的低应力切削刀具涂层的制备方法，其特征在于：所述高功率脉冲磁控溅射使用的cr靶的尺寸为ф72.6×6mm，纯度为99.999％。

10.如权利要求1所述的低应力切削刀具涂层的制备方法，其特征在于：所述高纯氩气为纯度为99.99％的氩气；所述高纯氮气为纯度为99.99％的氮气。