一种基于MPCVD设备的杂质分离气路系统及控制方法与流程

1.一种基于mpcvd设备的杂质分离气路系统，其特征在于，所述基于mpcvd设备的杂质分离气路系统包括：反应腔体、杂质分离设备以及排气设备，所述反应腔体、所述杂质分离设备以及所述排气设备依次连接；

2.根据权利要求1所述的基于mpcvd设备的杂质分离气路系统，其特征在于，所述基于mpcvd设备的杂质分离气路系统还包括：真空泵；

3.根据权利要求2所述的基于mpcvd设备的杂质分离气路系统，其特征在于，所述第一排气设备包括第一管道和第一阀门；所述第二排气设备包括第二管道、第二阀门以及比例阀门；

4.根据权利要求3所述的基于mpcvd设备的杂质分离气路系统，其特征在于，所述基于mpcvd设备的杂质分离气路系统还包括：压差阀门；

5.一种基于权利要求1-4任一项所述的基于mpcvd设备的杂质分离气路系统的控制方法，其特征在于，所述基于mpcvd设备的杂质分离气路系统的控制方法包括：

6.根据权利要求5所述的基于mpcvd设备的杂质分离气路系统的控制方法，其特征在于，所述反应腔体获取输入的反应气体的气体流量，所述排气设备控制所述气体流量维持在预设气体流量范围，以保证金刚石的正常生长，之前还包括：

7.根据权利要求6所述的基于mpcvd设备的杂质分离气路系统的控制方法，其特征在于，所述真空泵对所述反应腔体进行抽真空处理，当所述反应腔体的腔内气压达到预设气压值时，抽真空处理完成，具体包括：

8.根据权利要求7所述的基于mpcvd设备的杂质分离气路系统的控制方法，其特征在于，所述反应腔体获取输入的反应气体的气体流量，所述排气设备控制所述气体流量维持在预设气体流量范围，以保证金刚石的正常生长，具体包括：

9.根据权利要求7所述的基于mpcvd设备的杂质分离气路系统的控制方法，其特征在于，所述杂质分离结果包括杂质以及无杂质气体；

10.根据权利要求7所述的基于mpcvd设备的杂质分离气路系统的控制方法，其特征在于，所述第一阀门和所述第二阀门为气动阀门或电动阀门。