一种热环境障涂层及其制备方法、耐高温构件

1.一种热环境障涂层，其特征在于，包括致密层和高应变容限层，所述致密层包括稀土硅酸盐，所述高应变容限层包括高熵陶瓷。

2.根据权利要求1所述的热环境障涂层，其特征在于，所述高应变容限层包括排布于所述致密层表面的多个羽柱状结构，所述羽柱状结构由所述高熵陶瓷构成。

3.根据权利要求1所述的热环境障涂层，其特征在于，所述高熵陶瓷包括(y0.2la0.2nd0.2sm0.2eu0.2)2zr2o7，和/或

4.根据权利要求1或3所述的热环境障涂层，其特征在于，所述稀土硅酸盐选自稀土双硅酸盐，所述稀土双硅酸盐包括yb2si2o7。

5.根据权利要求1所述的热环境障涂层，其特征在于，所述致密层的厚度为75～200μm，和/或

6.根据权利要求1所述的热环境障涂层，其特征在于，还包括有si层，所述si层用于与基体接触，所述si层位于所述致密层上背离所述高应变容限层的一侧，所述si层的厚度为50～150μm。

7.一种耐高温构件，其特征在于，包括基体以及设置于所述基体上的如权利要求1～6任意一项所述的热环境障涂层，所述基体选自sic。

8.如权利要求1～6任意一项所述的热环境障涂层的制备方法，其特征在于，包括如下操作步骤：

9.根据权利要求8所述的热环境障涂层的制备方法，其特征在于，还包括：采用sic为基体，在基体上进行si层的沉积，所述致密层形成于所述si层上。

10.根据权利要求9所述的热环境障涂层的制备方法，其特征在于，所述si层、所述致密层和所述高应变容限层均采用ps-pvd技术制备得到；