微晶玻璃、微晶玻璃制品及其制造方法与流程

1.微晶玻璃制品，其特征在于，其组分按重量百分比表示，含有：sio2：40～60％；al2o3：15～30％；li2o：0.1～6％；zno：13～23％；tio2：0.5～7％；k2o：大于0但小于或等于3％；y2o3：大于0但小于或等于5.5％，其中k2o/y2o3为0.05～10.0。

2.根据权利要求1所述的微晶玻璃制品，其特征在于，其组分按重量百分比表示，还含有：zro2：0～5％；和/或p2o5：0～5％；和/或na2o：0～6％；和/或mgo：0～6％；和/或b2o3：0～4％；和/或cao+bao+sro：0～5％；和/或澄清剂：0～2％。

3.微晶玻璃制品，其特征在于，其组分中含有sio2、al2o3、zno、li2o、k2o、y2o3和tio2，其组分按重量百分比表示k2o/y2o3为0.05～10.0，所述微晶玻璃制品的划痕宽度为70μm以下。

4.根据权利要求3所述的微晶玻璃制品，其特征在于，其组分按重量百分比表示，含有：sio2：40～60％；和/或al2o3：15～30％；和/或li2o：0.1～6％；和/或zno：13～23％；和/或tio2：0.5～7％；和/或k2o：大于0但小于或等于3％；和/或y2o3：大于0但小于或等于5.5％；和/或zro2：0～5％；和/或p2o5：0～5％；和/或na2o：0～6％；和/或mgo：0～6％；和/或b2o3：0～4％；和/或cao+bao+sro：0～5％；和/或澄清剂：0～2％。

5.根据权利要求1～4任一所述的微晶玻璃制品，其特征在于，其组分按重量百分比表示，满足以下5种情形中的一种或多种：

6.根据权利要求1～4任一所述的微晶玻璃制品，其特征在于，其组分按重量百分比表示，含有：sio2：45～55％，优选sio2：48～55％；和/或al2o3：16～26％，优选al2o3：18～23％；和/或li2o：1～5％，优选li2o：2～5％；和/或zno：14～20％，优选zno：15～19％；和/或tio2：1～6％，优选tio2：2～5％；和/或k2o：0.01～2％,优选k2o：0.1～1％；和/或y2o3：0.01～3％，优选y2o3：0.1～2％；和/或zro2：0.5～4％，优选zro2：0.5～2％；和/或p2o5：0.5～4％，优选p2o5：1～3％；和/或na2o：0～4％，优选na2o：0～2％；和/或mgo：0～5％，优选mgo：0～3％，更优选不含有mgo；和/或b2o3：0～2％，优选b2o3：0～1％；和/或cao+bao+sro：0～4％，优选cao+bao+sro：0～2％；和/或澄清剂：0～1％，优选澄清剂：0～0.5％。

7.根据权利要求1～4任一所述的微晶玻璃制品，其特征在于，其组分按重量百分比表示，含有：la2o3+gd2o3+yb2o3+nb2o5+wo3+bi2o3+ta2o5+teo2：0～5％，优选la2o3+gd2o3+yb2o3+nb2o5+wo3+bi2o3+ta2o5+teo2：0～2％，更优选la2o3+gd2o3+yb2o3+nb2o5+wo3+bi2o3+ta2o5+teo2：0～1％，进一步优选不含有la2o3，和/或不含有gd2o3，和/或不含有yb2o3，和/或不含有nb2o5，和/或不含有wo3，和/或不含有bi2o3，和/或不含有ta2o5，和/或不含有teo2。

8.根据权利要求1～4任一所述的微晶玻璃制品，其特征在于，所述微晶玻璃制品含有尖晶石晶相，优选尖晶石晶相具有比其他晶相更高的重量百分比，更优选尖晶石晶相占微晶玻璃制品的重量百分比为20～50％，进一步优选尖晶石晶相占微晶玻璃制品的重量百分比为30～50％，更进一步优选尖晶石晶相占微晶玻璃制品的重量百分比为35～45％。

9.根据权利要求1～4任一所述的微晶玻璃制品，其特征在于，所述微晶玻璃制品含有石英晶相，优选石英晶相占微晶玻璃制品的重量百分比为20％以下，更优选石英晶相占微晶玻璃制品的重量百分比为10％以下，进一步优选石英晶相占微晶玻璃制品的重量百分比为5％以下，更进一步优选微晶玻璃制品中不含有石英晶相。

10.根据权利要求1～4任一所述的微晶玻璃制品，其特征在于，所述微晶玻璃制品的晶粒尺寸为60nm以下，优选为45nm以下，更优选为30nm以下，进一步优选为10～30nm；和/或离子交换层深度为70μm以上，优选为80～140μm，更优选100～140μm；和/或表面应力为120mpa以上，优选为200～400mpa，更优选为250～400mpa；和/或50μm深度的应力为41mpa以上，优选为41～200mpa，更优选为90～200mpa；和/或落球试验高度为1000mm以上，优选为1300mm以上，更优选为1500mm以上，进一步优选为1700mm以上；和/或耐摔性为1000mm以上，优选为1300mm以上，更优选为1400mm以上，进一步优选为1600mm以上；和/或断裂韧性为1.0mpa·m1/2以上，优选为1.2mpa·m1/2以上，更优选为1.2～1.6mpa·m1/2；和/或四点弯曲强度为500mpa以上，优选为600～1000mpa，更优选为700～1000mpa；和/或抗挤压强度为400n以上，优选为450n以上，更优选为500n以上；和/或杨氏模量为80～110gpa，优选为85～105gpa，更优选为90～105gpa；和/或划痕宽度为70μm以下，优选为60μm以下，更优选为50μm以下，进一步优选为30～50μm；和/或维氏硬度为630kgf/mm2以上，优选为660～800kgf/mm2，更优选为680～800kgf/mm2。

11.根据权利要求1～4任一所述的微晶玻璃制品，其特征在于，1mm以下厚度的微晶玻璃制品的雾度为0.3％以下，优选为0.25％以下，更优选为0.05％～0.2％；和/或400～800nm波长的平均光透过率为88.0％以上，优选为88.5％以上，更优选为89.5％以上；和/或550nm波长的光透过率为88.0％以上，优选为89.0％以上，更优选为89.5％以上；和/或400～800nm的平均光∣b∣值为1.0以下，优选为0.8以下，更优选为0.3～0.6。

12.根据权利要求11所述的微晶玻璃制品，其特征在于，所述微晶玻璃制品的厚度为0.2～1mm，优选为0.3～0.9mm，更优选为0.5～0.8mm，进一步优选为0.55mm或0.6mm或0.68mm或0.7mm或0.75mm。

13.根据权利要求1～4任一所述的微晶玻璃制品，其特征在于，其组分按重量百分比表示，含有：nio：0～4％；和/或ni2o3：0～4％；和/或coo：0～2％；和/或co2o3：0～2％；和/或fe2o3：0～7％；和/或mno2：0～4％；和/或er2o3：0～8％；和/或nd2o3：0～8％；和/或cu2o：0～4％；和/或pr2o3：0～8％；和/或ceo2：0～4％；和/或ago：0～2％。

14.微晶玻璃，其特征在于，其组分按重量百分比表示，含有：sio2：40～60％；al2o3：15～30％；li2o：0.1～6％；zno：13～23％；tio2：0.5～7％；k2o：大于0但小于或等于3％；y2o3：大于0但小于或等于5.5％，其中k2o/y2o3为0.05～10.0。

15.根据权利要求14所述的微晶玻璃，其特征在于，其组分按重量百分比表示，还含有：zro2：0～5％；和/或p2o5：0～5％；和/或na2o：0～6％；和/或mgo：0～6％；和/或b2o3：0～4％；和/或cao+bao+sro：0～5％；和/或澄清剂：0～2％。

16.微晶玻璃，其特征在于，其组分中含有sio2、al2o3、zno、li2o、k2o、y2o3和tio2，其组分按重量百分比表示k2o/y2o3为0.05～10.0，所述微晶玻璃含有尖晶石晶相。

17.根据权利要求16所述的微晶玻璃，其特征在于，其组分按重量百分比表示，含有：sio2：40～60％；和/或al2o3：15～30％；和/或li2o：0.1～6％；和/或zno：13～23％；和/或tio2：0.5～7％；和/或k2o：大于0但小于或等于3％；和/或y2o3：大于0但小于或等于5.5％；和/或zro2：0～5％；和/或p2o5：0～5％；和/或na2o：0～6％；和/或mgo：0～6％；和/或b2o3：0～4％；和/或cao+bao+sro：0～5％；和/或澄清剂：0～2％。

18.根据权利要求14～17任一所述的微晶玻璃，其特征在于，其组分按重量百分比表示，满足以下5种情形中的一种或多种：

19.根据权利要求14～17任一所述的微晶玻璃，其特征在于，其组分按重量百分比表示，含有：sio2：45～55％，优选sio2：48～55％；和/或al2o3：16～26％，优选al2o3：18～23％；和/或li2o：1～5％，优选li2o：2～5％；和/或zno：14～20％，优选zno：15～19％；和/或tio2：1～6％，优选tio2：2～5％；和/或k2o：0.01～2％,优选k2o：0.1～1％；和/或y2o3：0.01～3％，优选y2o3：0.1～2％；和/或zro2：0.5～4％，优选zro2：0.5～2％；和/或p2o5：0.5～4％，优选p2o5：1～3％；和/或na2o：0～4％，优选na2o：0～2％；和/或mgo：0～5％，优选mgo：0～3％，更优选不含有mgo；和/或b2o3：0～2％，优选b2o3：0～1％；和/或cao+bao+sro：0～4％，优选cao+bao+sro：0～2％；和/或澄清剂：0～1％，优选澄清剂：0～0.5％。

20.根据权利要求14～17任一所述的微晶玻璃，其特征在于，其组分按重量百分比表示，含有：la2o3+gd2o3+yb2o3+nb2o5+wo3+bi2o3+ta2o5+teo2：0～5％，优选la2o3+gd2o3+yb2o3+nb2o5+wo3+bi2o3+ta2o5+teo2：0～2％，更优选la2o3+gd2o3+yb2o3+nb2o5+wo3+bi2o3+ta2o5+teo2：0～1％，进一步优选不含有la2o3，和/或不含有gd2o3，和/或不含有yb2o3，和/或不含有nb2o5，和/或不含有wo3，和/或不含有bi2o3，和/或不含有ta2o5，和/或不含有teo2。

21.根据权利要求14～17任一所述的微晶玻璃，其特征在于，所述微晶玻璃含有尖晶石晶相，优选尖晶石晶相具有比其他晶相更高的重量百分比，更优选尖晶石晶相占微晶玻璃的重量百分比为20～50％，进一步优选尖晶石晶相占微晶玻璃的重量百分比为30～50％，更进一步优选尖晶石晶相占微晶玻璃的重量百分比为35～45％。

22.根据权利要求14～17任一所述的微晶玻璃，其特征在于，所述微晶玻璃含有石英晶相，优选石英晶相占微晶玻璃的重量百分比为20％以下，更优选石英晶相占微晶玻璃的重量百分比为10％以下，进一步优选石英晶相占微晶玻璃的重量百分比为5％以下，更进一步优选微晶玻璃中不含有石英晶相。

23.根据权利要求14～17任一所述的微晶玻璃，其特征在于，所述微晶玻璃的晶粒尺寸为60nm以下，优选为45nm以下，更优选为30nm以下，进一步优选为10～30nm；和/或维氏硬度为530kgf/mm2以上，优选为550kgf/mm2以上，更优选为580kgf/mm2以上，进一步优选为600～650kgf/mm2。

24.根据权利要求14～17任一所述的微晶玻璃，其特征在于，1mm以下厚度的微晶玻璃的雾度为0.3％以下，优选为0.25％以下，更优选为0.05％～0.2％；和/或400～800nm波长的平均光透过率为88.0％以上，优选为88.5％以上，更优选为89.5％以上；和/或550nm波长的光透过率为88.0％以上，优选为89.0％以上，更优选为89.5％以上；和/或400～800nm的平均光∣b∣值为1.0以下，优选为0.8以下，更优选为0.3～0.6。

25.根据权利要求24所述的微晶玻璃，其特征在于，所述微晶玻璃的厚度为0.2～1mm，优选为0.3～0.9mm，更优选为0.5～0.8mm，进一步优选为0.55mm或0.6mm或0.68mm或0.7mm或0.75mm。

26.根据权利要求14～17任一所述的微晶玻璃，其特征在于，其组分按重量百分比表示，含有：nio：0～4％；和/或ni2o3：0～4％；和/或coo：0～2％；和/或co2o3：0～2％；和/或fe2o3：0～7％；和/或mno2：0～4％；和/或er2o3：0～8％；和/或nd2o3：0～8％；和/或cu2o：0～4％；和/或pr2o3：0～8％；和/或ceo2：0～4％；和/或ago：0～2％。

27.微晶玻璃成形体，其特征在于，含有权利要求14～26任一所述的微晶玻璃。

28.玻璃盖板，其特征在于，含有权利要求1～13任一所述的微晶玻璃制品，和/或权利要求14～26任一所述的微晶玻璃，和/或权利要求27所述的微晶玻璃成形体。

29.玻璃元器件，其特征在于，含有权利要求1～13任一所述的微晶玻璃制品，和/或权利要求14～26任一所述的微晶玻璃，和/或权利要求27所述的微晶玻璃成形体。

30.电子设备，其特征在于，含有权利要求1～13任一所述的微晶玻璃制品，和/或权利要求14～26任一所述的微晶玻璃，和/或权利要求27所述的微晶玻璃成形体，和/或权利要求28所述的玻璃盖板，和/或权利要求29所述的玻璃元器件。

31.显示设备，其特征在于，含有权利要求1～13任一所述的微晶玻璃制品，和/或权利要求14～26任一所述的微晶玻璃，和/或权利要求27所述的微晶玻璃成形体，和/或权利要求28所述的玻璃盖板，和/或权利要求29所述的玻璃元器件。

32.权利要求1～13任一所述微晶玻璃制品的制造方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：形成基质玻璃，将基质玻璃通过晶化工艺形成微晶玻璃，再将所述微晶玻璃通过化学强化工艺形成微晶玻璃制品。

33.根据权利要求32所述的微晶玻璃制品的制造方法，其特征在于，所述形成基质玻璃包括以下步骤：按照组分比例将原料混合均匀，然后放入坩埚中，在电炉或燃气炉中在1350～1650℃的温度范围内进行5～24小时熔化，优选熔化温度为1450～1550℃，然后经澄清、均化、成型、退火后得到基质玻璃，所述澄清温度为1550℃～1650℃，退火温度为500～600℃。

34.根据权利要求32所述的微晶玻璃制品的制造方法，其特征在于，所述晶化工艺包括以下步骤：升温至规定的晶化处理温度，在达到晶化处理温度之后，将其温度保持一定的时间，然后再进行降温，该晶化处理温度为600～800℃，优选为650～750℃，在晶化处理温度下的保持时间为1～10小时，优选为3～6小时。

35.根据权利要求32所述的微晶玻璃制品的制造方法，其特征在于，所述晶化工艺包括以下步骤：在第1温度下进行成核工艺的处理，然后在第2温度下进行晶体生长工艺的处理。

36.根据权利要求35所述的微晶玻璃制品的制造方法，其特征在于，所述晶化工艺包括：第1温度为600～700℃，第2温度为大于700℃但小于或等于800℃，在第1温度下的保持时间为1～6小时，在第2温度下的保持时间为2～5小时。

37.根据权利要求32所述的微晶玻璃制品的制造方法，其特征在于，所述化学强化工艺包括：微晶玻璃浸没于350～470℃的熔融na盐的盐浴中1～36小时，优选温度范围为400～460℃，优选时间范围为2～15小时；和/或微晶玻璃浸没于360～450℃的熔融k盐和na盐的混合盐浴中1～36小时，优选时间范围为2～24小时。

38.权利要求14～26任一所述的微晶玻璃的制造方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：形成基质玻璃，然后将基质玻璃通过晶化工艺形成微晶玻璃。

39.根据权利要求38所述的微晶玻璃的制造方法，其特征在于，所述形成基质玻璃包括以下步骤：按照组分比例将原料混合均匀，然后放入坩埚中，在电炉或燃气炉中在1350～1650℃的温度范围内进行5～24小时熔化，优选熔化温度为1450～1550℃，然后经澄清、均化、成型、退火后得到基质玻璃，所述澄清温度为1550℃～1650℃，退火温度为500～600℃。

40.根据权利要求38所述的微晶玻璃的制造方法，其特征在于，所述晶化工艺包括以下步骤：升温至规定的晶化处理温度，在达到晶化处理温度之后，将其温度保持一定的时间，然后再进行降温，该晶化处理温度为600～800℃，优选为650～750℃，在晶化处理温度下的保持时间为1～10小时，优选为3～6小时。

41.根据权利要求38所述的微晶玻璃的制造方法，其特征在于，所述晶化工艺包括以下步骤：在第1温度下进行成核工艺的处理，然后在第2温度下进行晶体生长工艺的处理。

42.根据权利要求41所述的微晶玻璃的制造方法，其特征在于，所述晶化工艺包括：第1温度为600～700℃，第2温度为大于700℃但小于或等于800℃，在第1温度下的保持时间为1～6小时，在第2温度下的保持时间为2～5小时。