首页  专利技术  电子电路装置的制造及其应用技术

光学干涉断层摄影装置、光学干涉断层摄影系统、光学干涉断层摄影方法以及检查方法与流程

2025-07-20 16:40:01 579次浏览
光学干涉断层摄影装置、光学干涉断层摄影系统、光学干涉断层摄影方法以及检查方法与流程

本公开涉及光学干涉断层摄影装置、光学干涉断层摄影系统、光学干涉断层摄影方法以及检查方法。


背景技术:

1、光学干涉断层摄影(optical coherence tomography:oct)主要在医疗领域用于眼球等生物体器官的断层摄影。

2、作为光学干涉断层摄影装置,例如已知有如下的光学干涉断层摄影装置:利用分束器等对来自光源的光进行分割,分别照射到试样和参照镜而得到反射光,利用通过了各自的光路的这些反射光的干涉来进行断层摄影(例如,参照专利文献1)。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1:日本特开2011-104127号公报


技术实现思路

1、发明所要解决的课题

2、本公开的目的在于,提供能够一次性大范围地进行断层摄影且能够对位于远处的对象进行断层摄影的光学干涉断层摄影装置,以及,使用了该光学干涉断层摄影装置的光学干涉断层摄影系统、光学干涉断层摄影方法以及检查方法。

3、用于解决课题的手段

4、本公开涉及一种光学干涉断层摄影装置,其具备将来自光源的光聚光于试样的物镜,并且基于试样光与参照光的干涉进行上述试样的断层摄影,上述试样光是来自上述试样的反射光,上述参照光是来自设于上述物镜与上述试样之间的参照面的反射光,其中,

5、上述试样光和上述参照光双方通过上述物镜,

6、通过了上述物镜的来自光源的光以广角照射于上述试样,

7、上述参照面由光散射体构成。

8、优选的是,上述物镜是短焦镜头或广角镜头。

9、还优选的是,上述物镜的焦点位置是可变的。

10、还优选的是,上述光散射体在400nm~1750nm的波段中的雾度值为5%~95%。

11、还优选的是,上述光散射体在400nm~1750nm的波段中的全光线透过率为10%~90%。

12、还优选的是,上述参照面为平面。

13、还优选的是,上述光学干涉断层摄影装置具备具有上述物镜的探头。

14、还优选的是,上述光学干涉断层摄影装置具备多个上述探头。

15、还优选的是,从多个上述探头分别取得基于不同频率的光的信息。

16、还优选的是,上述探头配置为能够机械地移动。

17、本公开还涉及一种光学干涉断层摄影系统,其具备:上述的光学干涉断层摄影装置;以及移动机构,其使该光学干涉断层摄影装置所具备的上述探头机械地移动。

18、本发明还涉及一种光学干涉断层摄影方法,其使用上述的光学干涉断层摄影装置或上述的光学干涉断层摄影系统。

19、优选的是,将上述物镜与上述试样之间的距离设为2cm以上且小于2m来进行断层摄影。

20、还优选的是,一边使具有上述物镜的探头机械地移动,一边进行断层摄影。

21、还优选的是,一边使上述试样机械地移动,一边进行断层摄影。

22、还优选的是,使用多个具有上述物镜的探头来进行基于多个不同频率的光的断层摄影。

23、还优选的是,使用多个具有上述物镜的探头从多个不同的方向进行断层摄影。

24、本公开还涉及一种检查方法,其基于通过上述的光学干涉断层摄影方法对试样进行断层摄影而得到的图像数据,检查该试样的内部的状态。

25、发明效果

26、根据本公开,能提供能够一次性大范围地进行断层摄影且能够对位于远处的对象进行断层摄影的光学干涉断层摄影装置,以及,使用了该光学干涉断层摄影装置的光学干涉断层摄影系统、光学干涉断层摄影方法以及检查方法。



技术特征:

1.一种光学干涉断层摄影装置,其具备将来自光源的光聚光于试样的物镜,并且基于试样光与参照光的干涉进行所述试样的断层摄影,所述试样光是来自所述试样的反射光,所述参照光是来自设于所述物镜与所述试样之间的参照面的反射光,其中,

2.根据权利要求1所述的光学干涉断层摄影装置,其中,

3.根据权利要求1或2所述的光学干涉断层摄影装置,其中,

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的光学干涉断层摄影装置,其中,

5.根据权利要求1至4中的任一项所述的光学干涉断层摄影装置,其中,

6.根据权利要求1至5中的任一项所述的光学干涉断层摄影装置,其中,

7.根据权利要求1至6中的任一项所述的光学干涉断层摄影装置,其中,

8.根据权利要求7所述的光学干涉断层摄影装置,其中,

9.根据权利要求8所述的光学干涉断层摄影装置,其中,

10.根据权利要求7至9中的任一项所述的光学干涉断层摄影装置,其中,

11.一种光学干涉断层摄影系统,其具备:

12.一种光学干涉断层摄影方法,其使用权利要求1至10中的任一项所述的光学干涉断层摄影装置或权利要求11所述的光学干涉断层摄影系统。

13.根据权利要求12所述的光学干涉断层摄影方法,其中,

14.根据权利要求12或13所述的光学干涉断层摄影方法,其中,

15.根据权利要求12或13所述的光学干涉断层摄影方法,其中,

16.根据权利要求12至15中的任一项所述的光学干涉断层摄影方法,其中,

17.根据权利要求12至16中的任一项所述的光学干涉断层摄影方法,其中,

18.一种检查方法,其基于通过权利要求12至17中的任一项所述的光学干涉断层摄影方法对试样进行断层摄影而得到的图像数据,检查该试样的内部的状态。


技术总结
本发明提供能够一次性大范围地进行断层摄影并且能够对位于远处的对象进行断层摄影的光学干涉断层摄影装置等。光学干涉断层摄影装置具备将来自光源的光聚光于试样的物镜,并且基于试样光与参照光的干涉进行所述试样的断层摄影,所述试样光是来自所述试样的反射光,所述参照光是来自设于所述物镜与所述试样之间的参照面的反射光,其中,所述试样光和所述参照光双方通过所述物镜,通过了所述物镜的来自光源的光以广角照射于所述试样,所述参照面由光散射体构成。

技术研发人员:能美政男,坂仓淳史
受保护的技术使用者:大金工业株式会社
技术研发日:
技术公布日:2024/11/18
文档序号 : 【 40050099 】

技术研发人员:能美政男,坂仓淳史
技术所有人:大金工业株式会社

备 注:该技术已申请专利,仅供学习研究,如用于商业用途,请联系技术所有人。
声 明此信息收集于网络,如果你是此专利的发明人不想本网站收录此信息请联系我们,我们会在第一时间删除
能美政男坂仓淳史大金工业株式会社
光纤的制造方法及光纤的拉丝装置与流程 使用动态成像的牙刷制造控制的制作方法
相关内容