一种下颌无牙颌模型灌注用装置

本技术涉及义齿制作，具体来说，本技术涉及一种下颌无牙颌模型灌注用装置。

背景技术：

1、牙列缺失指的是全口牙齿因牙周炎或龋齿等原因全部缺失，口内一颗牙也没有的状态。一些人群例如老年人存在牙列缺失状态。下颌牙列缺失是指各种原因导致的下颌牙列全部缺失，下颌牙列缺失后的颌骨又称为下颌无牙颌。下颌牙列缺失是指牙周炎或龋齿、外伤等多种原因导致的下颌口内一颗牙也没有的状态，下颌牙列缺失后的颌骨又称为下颌无牙颌。患者可以根据全身状态、上颌牙情况、下颌无牙颌的解剖条件、经济因素等，酌情选择种植4-6颗的种植固定修复、种植2-4颗的种植覆盖修复，或传统粘膜支持的全口义齿修复。其中下颌全口义齿修复占大部分。

2、下颌总义齿的制作，医生用一定水粉比例、流动性较好的藻酸盐材料制取下颌牙槽嵴及粘膜转折处、磨牙后垫、下颌舌骨嵴、舌系带、下唇系带等解剖结构的阴模又叫做下颌初印模，用模具把初印模灌注成石膏模型，在石膏模型上制作个别托盘，制取终印模及颌位关系。用下颌终印模基模具灌注下颌工作模型，在下颌工作模型上技师排牙，试戴无误后充胶完成下颌总义齿。

3、下颌总义齿修复时，需要给患者的下颌取初印模、终印模两次印模，再灌注两次石膏模型。下颌无牙颌石膏模型是下颌藻酸盐或硅橡胶印模内灌注调拌好的石膏材料形成的阳模。下颌总义齿修复时，需要给患者的下颌取初印模、终印模两次印模，再灌注两次石膏模型。下颌无牙颌石膏模型是下颌藻酸盐或硅橡胶印模内灌注调拌好的石膏材料形成的阳模。下颌总义齿在精准的下颌无牙颌模型上制作，模型是总义齿成功的开始。下颌无牙颌印模到准确的下颌石膏模型，正确的模型灌注是制作高质量模型的基础。所以模型灌注在下颌总义齿制作中有至关重要的作用。下颌印模颊侧边缘较均匀一致，但舌侧边缘呈现“s”型线条，舌下腺区、下颌舌嵴、下颌舌骨后窝处具有不同的厚度和高度，想要灌注得到理想形态的下颌模型，面临着操作较复杂的技术瓶颈。目前石膏模型灌注有两种方法：直接灌注法和围模灌注法，这两种方法灌注的石膏脱模后都需要大量修整。

4、直接灌注法先把石膏放入印模里，扣在平面上，待石膏凝固后取下，大致修整石膏模型厚度及侧壁，然后把石膏模型放在金属底板上。在金属底板上再加一些石膏，使模型前后缘与金属底板平齐。

5、围模灌注法是在印模外周用材料圈围，这个步骤称为围模。无牙颌的初模型及工作模型均可用围模灌注，围模灌注可获得厚度适宜、外形规整的石膏模型，减少石膏打磨量和石膏用量。围模的原理是在印模周围形成一个盒形，包括两部分，一部分是在印模组织面的外缘形成模型边台，宽度大于5mm,距离印模边缘3mm.另一部分在模型边台外缘形成围板，围板上缘之印模最高处大于10mm.常用的围模方法有蜡片围模法、型盒围模法、硅橡胶围模法等。

技术实现思路

1、为了克服现有石膏模型灌注法的缺点，下颌无牙颌模型需要灌注更深导致人为误差大的问题，为了减少人为误差，适应标准化作业的需要，本实用新型提供一种下颌无牙颌模型灌注用装置，其包括底座和侧壁，底座上部开口，底座下部开有圆三角形孔洞，四周封闭，底座和侧壁围成一个内部空间，侧壁的后部距离底座内部空间的深度以及侧壁前部距离底座内内部空间深度尺寸设计恰当，这样便于操作；并且发现将该模型灌注用装置外围设计成近椭圆形更便于握持操作，从而可获得厚度适宜、外形规整的石膏模型，减少石膏打磨量和石膏用量。

2、具体来说，本实用新型提供了如下技术方案。

3、一种下颌无牙颌模型灌注用装置，其包括底座(1)和侧壁(2)，底座(1)上部开口，底座(1)下部开有圆三角形孔洞，四周封闭，底座(1)和侧壁(2)围成一个内部空间，底座(1)和侧壁(2)形成的外周拐角处为呈圆弧形或者近圆弧形；侧壁(2)的后部距离底座内部空间的深度为29-31mm，侧壁(2)的前部距离底座(1)内部空间的深度为11-13mm。

4、优选地，根据前述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其中，底座(1)和侧壁(2)是一体的。

5、更优选地，根据前述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其中，侧壁(1)围成的内部空间与印模形状相适应。

6、更优选地，根据前述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其中，侧壁(2)围成的内部空间比印模大，在印模置入该装置时，印模边缘与该装置边缘至少有5mm的距离。

7、更优选地，根据前述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其中，底座(1)的底部安装带磁性的底盘(4)；带磁性的底盘(4)包括转盘(5)和支撑座(6)。

8、更优选地，根据前述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其中，支撑座(6)的顶部与转盘(5)之间通过轴承连接；支撑座(6)的顶部是磁性底板(7)。

9、更优选地，根据前述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其中，磁性底板上放置磁吸片(8)。

10、更优选地，根据前述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其中，侧壁(2)后部呈两侧高中间低的凹形。

11、更优选地，根据前述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其中，侧壁(2)后部最高处的部分距离底座内部空间的深度优选30mm。

12、更优选地，根据前述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其中，侧壁(2)后部中间低的部分是平整的，其长度为29-31mm，优选30mm。

13、更优选地，根据前述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其中，侧壁(2)前部呈两侧高中间低的凹形。

14、更优选地，根据前述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其中，侧壁(2)前部最高处的部分距离底座内部空间的深度优选12mm。

15、更优选地，根据前述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其中，侧壁(2)前部中间低的部分是平整的，其长度为19-21mm，优选20mm。

16、更优选地，根据前述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其是用硅橡胶制作的。

17、使用本实用新型的下颌无牙颌模型灌注用装置，只要按照灌注步骤操作即可，可以进行标准化作业，从而可以提高牙齿石膏模型的制作效率。使用本实用新型的下颌无牙颌模型灌注用装置，可以一次性获得无牙颌的下颌标准石膏模型，并且，侧壁的后部距离底座内部空间的深度以及侧壁前部距离底座内内部空间深度尺寸设计恰当，这样便于操作；发现将该模型灌注用装置外围设计成近圆弧形更便于握持操作，从而可获得厚度适宜、外形规整的石膏模型，减少石膏打磨量和石膏用量。另外，在优选方案中利用模具底部的磁性底板和磁片，实现了工作模型与上合架石膏的磁性分离和复位。

1.一种下颌无牙颌模型灌注用装置，其包括底座(1)和侧壁(2)，其特征在于，底座(1)上部开口，底座(1)下部开有圆三角形孔洞(3)，四周封闭，底座(1)和侧壁(2)围成一个内部空间，底座(1)和侧壁(2)形成的外周拐角处为呈圆弧形或者近圆弧形；侧壁(2)的后部距离底座(1)内部空间的深度为29-31mm，侧壁(2)的前部距离底座(1)内部空间的深度为11-13mm。

2.根据权利要求1所述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其中，底座(1)和侧壁(2)是一体的。

3.根据权利要求2所述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其中，侧壁(2)围成的内部空间与印模形状相适应。

4.根据权利要求3所述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其中，侧壁(2)围成的内部空间比印模大，在印模置入该装置时，印模边缘与该装置边缘至少有5mm的距离。

5.根据权利要求4所述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其中，底座(1)的底部安装带磁性的底盘(4)；带磁性的底盘(4)包括转盘(5)和支撑座(6)。

6.根据权利要求5所述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其中，支撑座(6)的顶部与转盘(5)之间通过轴承连接；支撑座(6)的顶部是磁性底板(7)。

7.根据权利要求6所述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其中，磁性底板(7)上放置磁吸片(8)。

8.根据权利要求1所述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其中，侧壁(2)后部呈两侧高中间低的凹形。

9.根据权利要求1所述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其中，侧壁(2)前部呈两侧高中间低的凹形。

10.根据权利要求1-9任一项所述的下颌无牙颌模型灌注用装置，其中，其是用硅橡胶制作的。