一种光固化3D打印过程的全向能量场控制方法及系统

1.一种光固化3d打印过程的全向能量场控制方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：

2.如权利要求1所述的一种光固化3d打印过程的全向能量场控制方法，其特征在于，所述对区块内的所有影像点进行阈值分析，筛选曝光点，根据所有区块的曝光点数量差异，得到各区块的形态扩散系数，包括：

3.如权利要求1所述的一种光固化3d打印过程的全向能量场控制方法，其特征在于，所述各影像点的灰度修正值的获取方法，包括：

4.如权利要求1所述的一种光固化3d打印过程的全向能量场控制方法，其特征在于，所述各投影点受到焦平面上各点的亮度影响概率的获取方法，包括：

5.如权利要求3所述的一种光固化3d打印过程的全向能量场控制方法，其特征在于，所述根据各层切片的切片投影平面设置初始光强掩膜，包括：

6.如权利要求5所述的一种光固化3d打印过程的全向能量场控制方法，其特征在于，所述各投影点的实际光强的获取方法，包括：将第k层切片的切片投影平面上投影点(x,y)的实际光强记为，；式中，w和h分别表示切片投影平面的宽和高，是灰度修正函数，表示在第k层切片的光强掩膜上点(i,j)的光强掩膜值，为投影照片中第i行第j列影像点的形态系数；表示第k层切片的切片投影平面上的投影点(x,y)受到焦平面上点(i,j)的亮度影响概率。

7.如权利要求1所述的一种光固化3d打印过程的全向能量场控制方法，其特征在于，所述得到全向能量场模型的方法，包括：

8.如权利要求7所述的一种光固化3d打印过程的全向能量场控制方法，其特征在于，所述得到待打印三维模型上各三维点的曝光累积光强的方法，具体包括：将待打印三维模型上点的曝光累积光强记为，；其中，为待打印三维模型的高度；为所有切片的层数；为单层切片的厚度；为待打印三维模型上点到切片投影平面的欧式距离；为第k层切片上的三维点的空间光强。

9.如权利要求7所述的一种光固化3d打印过程的全向能量场控制方法，其特征在于，所述根据全向能量场模型对各层切片的初始光强掩膜进行调整，得到最优光强掩膜，包括：

10.一种光固化3d打印过程的全向能量场控制系统，包括存储器、处理器以及存储在所述存储器中并在所述处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述计算机程序时实现如权利要求1-9任意一项所述一种光固化3d打印过程的全向能量场控制方法的步骤。