一种XeF2刻蚀设备及使用方法与流程

1.一种xef2刻蚀设备，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的一种xef2刻蚀设备，其特征在于：所述xef2刻蚀工艺模块还包括xef2气源、n2气源、扩展腔体、循环泵和第一真空泵组，所述xef2气源通过管路一与扩展腔体连接，且管路一上设有阀门一，所述n2气源通过管路二分别与管路一、扩展腔体和xef2刻蚀腔体连接，且管路二与管路一、扩展腔体、xef2刻蚀腔体和n2气源之间分别设有阀门五、阀门六、阀门七和气体流量计一，所述扩展腔体通过管路三与xef2刻蚀腔体连接，且管路三上设有阀门二，所述xef2刻蚀腔体与运输腔体连接，且xef2刻蚀腔体分别通过管路四、管路五与循环泵、第一真空泵组连接，管路四上设有阀门八，管路五上设有阀门三，所述扩展腔体通过管路六与第一真空泵组连接，且管路六上设有阀门四，所述循环泵分别通过管路七、管路八与扩展腔体、xef2刻蚀腔体连接，且管路七上设有阀门九，管路八上设置有阀门十。

3.根据权利要求1所述的一种xef2刻蚀设备，其特征在于：所述沉积自组装单分子层模块还包括载体气源、第一储藏罐、第二储藏罐和第二真空泵组，所述载体气源通过管路十一与沉积腔体连接，所述管路十一上设置有阀门十一，所述载体气源通过管路十二分别与第一储藏罐和第二储藏罐连接，且管路十二与第一储藏罐之间设有阀门十二和气体流量计二，管路十二与第二储藏罐之间设有阀门十三和气体流量计三，所述第一储藏罐和第二储藏罐分别通过管路十三与沉积腔体连接，所述沉积腔体与运输腔体连接，并且通过管路十四与第二真空泵组连接，且管路十四上设有阀门十四，所述第一储藏罐和第二储藏罐上均设置有加热装置。

4.根据权利要求1所述的一种xef2刻蚀设备，其特征在于：所述所述沉积自组装单分子层模块还包括载体气源、蒸汽器、第一储藏罐、第二储藏罐和第二真空泵组，所述载体气源通过管路十五与蒸发器连接，且管路十五上设有气体流量计四，载体气源通过管路十六分别与第一储藏罐和第二储藏罐连接，且载体气源与管路十六之间设置有气体流量计五，所述第一储藏罐、第二储藏罐与管路十六之间分别设置有阀门十五和阀门十六，所述第一储藏罐、第二储藏罐通过管路十七与蒸发器连接，并且第一储藏罐、第二储藏罐与管路十七之间分别设置有液体流量计一、液体流量计二，所述蒸发器通过管路十八与沉积腔体连接，所述沉积腔体与运输腔体连接，并且通过管路十九与第二真空泵组连接，且管路十九上设有阀门十七。

5.根据权利要求2所述的一种xef2刻蚀设备，其特征在于：一个非稀释连续刻蚀工艺过程包括如下步骤：

6.根据权利要求2所述的一种xef2刻蚀设备，其特征在于：一个稀释连续刻蚀工艺过程包括如下步骤：

7.根据权利要求2所述的一种xef2刻蚀设备，其特征在于：一个非稀释脉冲刻蚀工艺过程，包括如下步骤：

8.根据权利要求1所述的一种xef2刻蚀设备，其特征在于：一个稀释脉冲刻蚀工艺过程，包括如下步骤：

9.根据权利要求7或8所述的一种xef2刻蚀设备，其特征在于：xef2刻蚀需要1—100个脉冲刻蚀过程来完成晶圆刻蚀，并且在每个脉冲过程之间暂停0-300秒。