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一种用于电子束曝光机的基片盘锁紧装置及其控制方法与流程

2025-12-04 16:20:02 592次浏览

技术特征:

1.一种用于电子束曝光机的基片盘锁紧装置,其特征在于,包括底座(1),以及安装在底座(1)上的驱动组件、转轴座(5)、转轴(6)、夹持组件、弹簧预紧组件和限位识别组件;所述转轴(6)通过转轴座(5)固定在底座(1)上,转轴(6)的一端与驱动组件连接,转轴(6)的另一端与限位识别组件连接,所述限位识别组件用于辅助判断转轴(6)转动范围的极限位置;所述夹持组件和弹簧预紧组件嵌套在转轴(6)上,夹持组件用于锁紧基片盘,弹簧预紧组件用于提供弹簧转矩,以作为夹紧力;当进行基片盘锁紧时,通过驱动组件提供的驱动力克服弹簧预紧组件提供的弹簧转矩,实现转轴(6)转动,进而带动夹持组件转动至预设位置,待基片盘传入载片位置后,驱动组件回转至锁紧位置,并不再提供驱动力,夹持组件在弹簧转矩的作用下提供持续的锁紧力,以锁紧基片盘。

2.根据权利要求1所述的用于电子束曝光机的基片盘锁紧装置,其特征在于,所述夹持组件包括转轴夹(7)和锁紧扣(8),所述转轴夹(7)倾斜嵌套在转轴(6)上,所述锁紧扣(8)固定在转轴夹(7)上,所述锁紧扣(8)与基片盘接触。

3.根据权利要求2所述的用于电子束曝光机的基片盘锁紧装置,其特征在于,所述锁紧扣(8)内部为空心结构,且锁紧扣(8)采用喇叭口形状。

4.根据权利要求2所述的用于电子束曝光机的基片盘锁紧装置,其特征在于,所述弹簧预紧组件包括弹簧套筒(9)、预紧弹簧(10)和弹簧底座(11),所述弹簧套筒(9)嵌套固定在转轴(6)上,弹簧底座(11)固定在底座(1)上,预紧弹簧(10)嵌套在转轴(6)上,预紧弹簧(10)的一端与弹簧套筒(9)可拆卸连接,预紧弹簧(10)的另一端与弹簧底座(11)固定连接;通过调整预紧弹簧(10)在弹簧套筒(9)上的安装位置,为转轴(6)提供预设的弹簧转矩。

5.根据权利要求4所述的用于电子束曝光机的基片盘锁紧装置,其特征在于,所述弹簧套筒(9)的端面设有多个安装孔(91),所述预紧弹簧(10)与安装孔(91)连接,多个所述安装孔(91)围绕形成180°的半圆。

6.根据权利要求4所述的用于电子束曝光机的基片盘锁紧装置,其特征在于,所述限位识别组件包括旋转挡光片(12)、安装座(13)和微型光电开关(14);所述旋转挡光片(12)安装在安装座(13)上,所述安装座(13)与转轴(6)的端部连接固定,所述微型光电开关(14)安装在底座(1);当安装座(13)随着转轴(6)转动,使得旋转挡光片(12)触发微型光电开关(14)时,表明转轴(6)转动至极限位置。

7.根据权利要求6所述的用于电子束曝光机的基片盘锁紧装置,其特征在于,所述旋转挡光片(12)包括第一旋转挡光片(121)和第二旋转挡光片(122),所述微型光电开关(14)包括第一微型光电开关(141)和第二微型光电开关(142),所述第一微型光电开关(141)和第二微型光电开关(142)分别安装在安装座(13)的左右两侧,所述第一旋转挡光片(121)与第一微型光电开关(141)相匹配,所述第二旋转挡光片(122)与第二微型光电开关(142)相匹配,以用于识别转轴(6)左右转动的极限位置。

8.根据权利要求1至7中任意一项所述的用于电子束曝光机的基片盘锁紧装置,其特征在于,所述驱动组件包括电机(2)、电机座(3)和联轴器(4);所述电机(2)通过电机座(3)固定在底座(1)上,电机(2)的输出轴通过联轴器(4)与转轴(6)连接固定。

9.一种适用于权利要求1至8中任意一项所述的用于电子束曝光机的基片盘锁紧装置的控制方法,其特征在于,包括以下步骤;

10.根据权利要求9所述的控制方法,其特征在于,所述步骤s3中,当预紧弹簧(10)扭转到打开位置时,锁紧扣(8)再次位于基片盘的下方,此时基片盘可沿轨道自由进出,当基片盘被推至锁紧扣(8)上方后,电机(2)反转,带动转轴(6)上的锁紧扣(8)执行夹紧动作,转轴(6)抵御预紧弹簧(10)扭力的同时,跟随电机(2)进行回位转动,直至锁紧扣(8)刚好到达接触基片盘的位置,电机(2)完全失电;


技术总结
本发明公开一种用于电子束曝光机的基片盘锁紧装置及其控制方法,装置中,转轴固定在底座上,转轴的一端与驱动组件连接,另一端与限位识别组件连接,限位识别组件用于辅助判断转轴转动的极限位置;夹持组件和弹簧预紧组件嵌套在转轴上,夹持组件用于锁紧基片盘,弹簧预紧组件用于提供弹簧转矩;当进行基片盘锁紧时,驱动组件提供的驱动力克服弹簧预紧组件提供的弹簧转矩,实现转轴转动,进而带动夹持组件转动至预设位置,待基片盘传入载片位置后,驱动组件回转至锁紧位置,并不再提供驱动力,夹持组件在弹簧转矩的作用下提供持续的锁紧力,以锁紧基片盘。本发明具有操作便捷、调节灵活且低磁干扰等特点,满足了电子束曝光机的特殊工况使用需求。

技术研发人员:张超,范江华,巩小亮,黄一峻,徐洪威,黄瑾
受保护的技术使用者:中国电子科技集团公司第四十八研究所
技术研发日:
技术公布日:2024/11/26
文档序号 : 【 40125636 】

技术研发人员:张超,范江华,巩小亮,黄一峻,徐洪威,黄瑾
技术所有人:中国电子科技集团公司第四十八研究所

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张超范江华巩小亮黄一峻徐洪威黄瑾中国电子科技集团公司第四十八研究所
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