用于等离子体涂层设备的改进的雾化器的制作方法

1.一种气溶胶生成装置，用于为等离子体涂层加工生成包括前体的气溶胶流，所述气溶胶生成装置包括气溶胶液滴分离器和成组雾化隔室，

2.根据权利要求1所述的气溶胶生成装置，其特征在于，所述稀释流通道基本上平行于所述流体流通道定向。

3.根据前述权利要求中任一权利要求所述的气溶胶生成装置，其特征在于，所述气溶胶通道基本上垂直于所述流体流通道和/或所述稀释流通道定向。

4.根据前述权利要求中任一权利要求所述的气溶胶生成装置，其特征在于，所述稀释流出口位于距离所述雾化器气流出口10厘米或更小的出口间距内，所述出口间距比如是10厘米、9厘米、8厘米、7厘米、6厘米、5厘米、4厘米、3厘米、2厘米、1厘米或其中两者之间或这些值以下的任何值。

5.根据前述权利要求中任一权利要求所述的气溶胶生成装置，其特征在于，所述雾化器气流入口连接至雾化气源，其中，所述稀释流入口连接至稀释气源，并且/或者其中，所述前体贮存器包含液体前体。

6.根据前述权利要求中任一权利要求所述的气溶胶生成装置，其特征在于，所述液滴引入器件包括文丘里管，所述文丘里管在所述前体通道出口位置处位于所述流体流通道中。

7.根据前述权利要求中任一权利要求所述的气溶胶生成装置，其特征在于，所述成组雾化隔室包括多于一个雾化隔室，其中所述成组雾化隔室中的每个所述雾化隔室的雾化器气流出口流体连接至所述气溶胶通道。

8.根据权利要求7所述的气溶胶生成装置，其特征在于，多个所述雾化隔室彼此相邻地布置，从而形成成排雾化隔室。

9.根据前述权利要求中任一权利要求所述的气溶胶生成装置，其特征在于，每个雾化部件包括用于控制雾化参数的雾化器控制系统，所述雾化参数包括以下的任一个或任何内容：

10.根据前述权利要求中任一权利要求所述的气溶胶生成装置，其特征在于，所述气溶胶通道被分隔，并且/或者其中，两个或更多个雾化隔室的前体贮存器是流体连接的。

11.根据前述权利要求中任一权利要求所述的气溶胶生成装置，其特征在于，所述气溶胶通道包括导流风扇，所述导流风扇用于辅助所述气溶胶通道中的流动并且/或者用于帮助选择所述气溶胶中的液滴大小和/或液滴量。

12.根据前述权利要求中任一权利要求所述的气溶胶生成装置，其特征在于，所述气溶胶生成装置包括附接至所述喷嘴出口的喷嘴。

13.一种等离子体涂层系统，所述等离子体涂层系统包括根据前述权利要求中任一权利要求所述的气溶胶生成装置以及等离子体涂层设备，其中，所述气溶胶生成装置的所述气溶胶通道流体连接至所述等离子体涂层设备的前体输入部。

14.一种气溶胶生成方法，用于为等离子体涂层加工生成包括前体的气溶胶流，所述方法包括以下步骤：

15.根据权利要求14所述的气溶胶生成方法，其特征在于，经由喷嘴，将所述包括前体的气溶胶流引导至等离子体涂层设备。