激光打标装置的制作方法

本技术有关于一种激光加工机具,尤指一种激光打标装置。
背景技术:
1、现有的激光打标机,由于在进行刻印作业的过程中,会因激光而产生激光,以致对操作人员的视力造成影响。因此会通过遮光结构罩设于加工中的工件上,以利于激光光作动中防止操作人员直视。
2、然而,由于现在的打标机在遮光保护的操作上较为不易,通常需要手持方式将遮光结构持续维持在上方,以便加工物件摆至于激光光源下方后始可放下。因此在操作上相对不便且容易造成人手疲累。
技术实现思路
1、本实用新型的主要目的,在于可提供一种激光打标装置,其可通过摆臂的方式使遮光罩快速作掀起或盖合,并具有如磁吸等方式构成的设计,以便于遮光罩能够被定位;并可通过输送机构与分料机构的紧邻设计,而便于缩小整体空间且达到自动输送料件的目的。借以减轻操作人员的负担。
2、本实用新型的另一目的,在于可提供一种激光打标装置,其进一步配合触压开关的设置,而达到安全启动激光模组的目的。
3、为了达成上述的主要目的,本实用新型提供一种激光打标装置,包括一平台、一激光模组与一遮光机构;平台设有一输送机构与一分料机构,且输送机构上具有一待料区与一加工区,而分料机构位于待料区上;激光模组相对设于加工区上方;遮光机构设于激光模组外,并包含一遮光罩、罩设于激光模组外的一支撑罩、以及连接于遮光罩与支撑罩之间的至少一摆臂,且遮光罩是以摆臂而能由支撑罩朝向激光模组下方摆动至加工区上;其中,遮光罩外设有一握把,且于遮光罩内相对于握把处设有一吸附元件,而支撑罩外进一步具有一与遮光罩相对应的一表面,所述表面具有一第一吸附位置与一第二吸附位置;当遮光罩以摆臂移动至支撑罩时,吸附元件吸附于第一吸附位置;而当遮光罩以摆臂移动至加工区时,吸附元件吸附于第二吸附位置。
4、在一些实施例中,该输送机构包含一驱动马达、以及由该驱动马达所带动的二个输送轨道,且二个该输送轨道彼此间相互间隔设置。
5、在一些实施例中,二个该输送轨道彼此间是以一调整螺杆相螺设,并能通过该调整螺杆调整二个该输送轨道间的距离。
6、在一些实施例中,该输送机构于该加工区远离该待料区的一端上设有一卸料限位模组。
7、在一些实施例中,该待料区与该加工区之间设有一限位挡板。
8、在一些实施例中,所述限位挡板是由间隔且相对设置的二个l形板件所构成。
9、在一些实施例中,该平台上进一步设有一调整组件,且该调整组件位于该待料区远离该加工区一端。
10、在一些实施例中,该调整组件具有一调整杆、以及于该调整杆上作位移的一止挡部。
11、在一些实施例中,该分料机构包含位于该待料区两侧的二个分料臂,且各该分料臂下方均设有一楔形板,二个该楔形板能彼此作相对位移。
12、在一些实施例中,该定位元件为磁铁、吸盘或卡扣件。
13、为了达成上述的另一目的,本实用新型提供一种激光打标装置,其可进一步于上述第二固定位置上设有一触压开关;当触压开关受定位元件触压后,始可启动激光模组进行刻印作业,以确保操作人员的安全。
技术特征:
1.一种激光打标装置,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的激光打标装置,其特征在于,该输送机构包含一驱动马达、以及由该驱动马达所带动的二个输送轨道,且二个该输送轨道彼此间相互间隔设置。
3.如权利要求2所述的激光打标装置,其特征在于,二个该输送轨道彼此间是以一调整螺杆相螺设,并能通过该调整螺杆调整二个该输送轨道间的距离。
4.如权利要求1所述的激光打标装置,其特征在于,该输送机构于该加工区远离该待料区的一端上设有一卸料限位模组。
5.如权利要求1所述的激光打标装置,其特征在于,该待料区与该加工区之间设有一限位挡板。
6.如权利要求5所述的激光打标装置,其特征在于,所述限位挡板是由间隔且相对设置的二个l形板件所构成。
7.如权利要求4或5所述的激光打标装置,其特征在于,该平台上进一步设有一调整组件,且该调整组件位于该待料区远离该加工区一端。
8.如权利要求7所述的激光打标装置,其特征在于,该调整组件具有一调整杆、以及于该调整杆上作位移的一止挡部。
9.如权利要求1所述的激光打标装置,其特征在于,该分料机构包含位于该待料区两侧的二个分料臂,且各该分料臂下方均设有一楔形板,二个该楔形板能彼此作相对位移。
10.如权利要求1所述的激光打标装置,其特征在于,该第二固定位置上设有一触压开关。
11.如权利要求1所述的激光打标装置,其特征在于,该定位元件为磁铁、吸盘或卡扣件。
技术总结
一种激光打标装置,包括平台、激光模组与遮光机构;平台设有输送机构与分料机构,且输送机构上具有待料区与加工区,而分料机构位于待料区上;激光模组相对设于加工区上方;遮光机构设于激光模组外,并包含遮光罩、罩设于激光模组外的支撑罩、以及连接于遮光罩与支撑罩之间的至少摆臂,且遮光罩是以摆臂而能由支撑罩朝向激光模组下方摆动至加工区上;遮光罩外设有握把,且于遮光罩内相对于握把处设有定位元件,而支撑罩外更具有与遮光罩相对应的表面,所述表面具有第一固定位置与第二固定位置;当遮光罩以摆臂移动至支撑罩时,定位元件固定于第一固定位置;而当遮光罩以摆臂移动至加工区时,定位元件固定于第二固定位置,而缩小整体空间。
技术研发人员:吴上财
受保护的技术使用者:町洋企业股份有限公司
技术研发日:20240313
技术公布日:2024/11/21
技术研发人员:吴上财
技术所有人:町洋企业股份有限公司
备 注:该技术已申请专利,仅供学习研究,如用于商业用途,请联系技术所有人。
声 明 :此信息收集于网络,如果你是此专利的发明人不想本网站收录此信息请联系我们,我们会在第一时间删除
