原料气处理系统和原料气处理方法与流程

1.一种原料气处理系统，其特征在于，包括

2.根据权利要求1所述的原料气处理系统，其特征在于，所述原料气包含至少两种所述还原性气体杂质；

3.根据权利要求2所述的原料气处理系统，其特征在于，所述原料气包括gb/t8979中的高纯氮或超高纯氮。

4.根据权利要求2所述的原料气处理系统，其特征在于，还包括检测单元，所述检测单元连接所述控制单元，至少用于检测所述原料气在催化氧化反应前的氧气浓度和经催化氧化反应后获得的纯化气的氧气浓度。

5.根据权利要求4所述的原料气处理系统，其特征在于，所述氧气的体积流量为：

6.一种在权利要求1至5任一项所述的原料气处理系统中进行的原料气处理方法，其特征在于，包括以下步骤：

7.根据权利要求6所述的原料气处理方法，其特征在于，所述控制单元按以下方式计算所述体积流量a：

8.根据权利要求7所述的原料气处理方法，其特征在于，还包括每隔时间间隔t调整一次所述体积流量a的步骤：

9.根据权利要求6所述的原料气处理方法，其特征在于，还包括对氧气的体积流量进行补偿的步骤：