一种溅射平面银铜合金靶材及其制备方法与流程

本发明涉及金属靶材生产，尤其涉及一种溅射平面银铜合金靶材及其制备方法。

背景技术：

1、低辐射镀膜玻璃，是在玻璃表面镀制一层具有低辐射功能的金属或金属化合物组成的薄膜，使玻璃表面具有极高的远红外线反射率，从而达到保温的目的，同时兼具遮阳隔热效果的镀膜玻璃。

2、现有的技术中低辐射薄膜基本上由磁控溅射法制备而成，传统的低辐射镀膜玻璃都是以很薄的单银或双银膜层为基础，并把它夹在二层减反射的金属氧化物保护层之间，防止银层的氧化、硫化等，以稳定产品的性能、满足产品的颜色等需求；另外，为了进一步保护银膜层，以避免银膜层在后续溅射反应过程受到侵蚀，还要在银膜层的一侧增加合金靶材以充当阻挡层，合金靶材的致密性和组织均匀性是保证镀膜稳定性的重要参数。

3、在合金靶材的加工过程中，现有有些产品的组织内存有孔洞，致密性较差，如2023年6月27日公开了一件公开号为cn116334548a，名称为一种银铜锌合金溅射靶材及其制备方法，所述银铜锌合金溅射靶材由合金成分有cu、zn、n i和余量银组成，所得原料进行熔炼、精炼、除气；除气后所得合金液采用铸铁模具进行浇铸，得到坯料，将所得坯料依次进行热轧、均匀化热处理和人工时效，时效后取出水冷，得到银铜锌合金溅射靶材，该方法能够均匀靶材组织；但合金数量较多，杂质元素相较增多，降低合金靶材的致密性和组织均匀性。

技术实现思路

1、有鉴于此，本发明的目的在于提出一种溅射平面银铜合金靶材及其制备方法，以解决致密性较差的问题。

2、基于上述目的，本发明提供了一种溅射平面银铜合金靶材的制备方法，

3、将纯银和纯铜在保护气体的氛围下进行熔炼，得到液态合金；

4、在保护气体的氛围下，将液态合金依次进行保温和浇注沉积，破真空后冷却得到银铜合金铸锭；

5、将银铜合金铸锭依次进行均匀化退火、总轧制、低温退火，进而得到银铜合金粗锭；

6、将银铜合金粗锭依次进行机加工cnc、绑定、探伤、后处理，得到银铜合金靶材。

7、可选的，所述纯铜和纯银的质量比的范围为10％：90％至60％：40％。

8、可选的，所述熔炼包括；将纯银和纯铜加入真空中频感应熔炼炉中，待熔炼炉内的真空度的范围为0.2pa至0.8pa时，将温度升温至1160℃至1300℃，保温范围为5min至20min。

9、可选的，所述保护气体为氩气，所述氩气的气压范围为0.7mpa至0.9mpa。

10、可选的，所述均匀化退火的温度范围为600℃至800℃，保温范围为2h至3h。

11、可选的，所述总轧制包括热轧制和冷轧制，所述热轧制处理的道次范围为10次至20次，所述冷轧制处理的道次范围为1次至5次，所述热轧制和冷轧制均采用在二辊轧机中进行的往复轧制。

12、可选的，所述热轧制处理的道次变形量范围为15％至30％，热轧制的总变形量不小于60％，所述冷轧制处理的道次变形量范围为10％至20％。

13、可选的，所述机加工cnc为对银铜合金粗锭的表面进行铣削处理，进而获得预靶材。

14、可选的，所述绑定包括：在加热状态下，使用接合材料将铜背板与预靶材贴合。

15、一种溅射平面银铜合金靶材，通过上述制备方法制备而成。

16、本发明的有益效果：本发明提供的一种溅射平面银铜合金靶材的制备方法，只采用纯银和纯铜熔炼，减少杂质元素的引入，通过采用熔炼浇注处理有效提高了银铜合金靶材组织的致密性和均匀性，通过采用均匀化退火处理使合金靶材铸锭成分均匀化、消除成分偏析和组织不均匀性；通过总轧制和低温退火使得银铜合金靶材成分均匀、晶粒分布均匀；通过机加工cnc、绑定、探伤、后处理等使银铜合金靶材成分均匀和致密性高，而且本发明制得的银铜合金靶材溅射时镀膜得厚度均匀、溅射速率快，完全符合溅射需求。

1.一种溅射平面银铜合金靶材的制备方法，其特征在于，

2.根据权利要求1所述的一种溅射平面银铜合金靶材的制备方法，其特征在于，所述纯铜和纯银的质量比的范围为10％：90％至60％：40％。

3.根据权利要求1所述的一种溅射平面银铜合金靶材的制备方法，其特征在于，所述熔炼包括；将纯银和纯铜加入真空中频感应熔炼炉中，待熔炼炉内的真空度的范围为0.2pa至0.8pa时，将温度升温至1160℃至1300℃，保温范围为5min至20min。

4.根据权利要求1所述的一种溅射平面银铜合金靶材的制备方法，其特征在于，所述保护气体为氩气，所述氩气的气压范围为0.7mpa至0.9mpa。

5.根据权利要求1所述的一种溅射平面银铜合金靶材的制备方法，其特征在于，所述均匀化退火的温度范围为600℃至800℃，保温范围为2h至3h。

6.根据权利要求1所述的一种溅射平面银铜合金靶材的制备方法，其特征在于，所述总轧制包括热轧制和冷轧制，所述热轧制处理的道次范围为10次至20次，所述冷轧制处理的道次范围为1次至5次，所述热轧制和冷轧制均采用在二辊轧机中进行的往复轧制。

7.根据权利要求6所述的一种溅射平面银铜合金靶材的制备方法，其特征在于，所述热轧制处理的道次变形量范围为15％至30％，热轧制的总变形量不小于60％，所述冷轧制处理的道次变形量范围为10％至20％。

8.根据权利要求1所述的一种溅射平面银铜合金靶材的制备方法，其特征在于，所述机加工cnc为对银铜合金粗锭的表面进行铣削处理，进而获得预靶材。

9.根据权利要求8所述的一种溅射平面银铜合金靶材的制备方法，其特征在于，所述绑定包括：在加热状态下，使用接合材料将铜背板与预靶材贴合。

10.一种溅射平面银铜合金靶材，其特征在于：通过权利要求1所述方法制备而成。