一种蒸镀机对位系统的制作方法

本申请涉及蒸镀，尤其涉及一种蒸镀机对位系统。

背景技术：

1、有机发光二极管显示器具有低能耗、自发光、宽视角及响应速度快等优点，是当今显示器研究领域的热点之一，被认为是下一代显示技术。目前，oled器件的制作通常使用真空热蒸镀设备进行oled器件薄膜的沉积。精细掩模板是用于oled器件制作的蒸镀过程中图案化有机像素成型的工具。使用精细掩模板路线生产real rgb结构的硅基micro oled，要求所需蒸镀设备制备的oled器件像素阴影小于0.5μm，掩模板与硅基板的对位精度小于0.1μm。传统蒸镀机的对位系统的对位精度一般为1.5-3μm，无法满足高精度镀膜机小于0.1μm的对位精度要求。

技术实现思路

1、为了解决上述技术问题，本发明提供一种蒸镀机对位系统。

2、本发明提供一种蒸镀机对位系统，包括：由腔体壁围成的腔室，所述腔室内设置有顶板，所述顶板将腔室分为两部分，顶板上方腔室为大气区，顶板下方腔室为真空腔体；位于大气区的振动隔离系统，所述振动隔离系统包括分别设置在顶板上表面两端的两个主动隔离器，用于隔离外界扰动；位于大气区的六轴平台，所述六轴平台从下至上依次包括：第一分离式基座、电机及第二分离式基座，用于控制放置在其上的待蒸镀基板的位置和姿态；对位装置，所述对位装置包括设置在真空腔体内的静电吸盘和掩模板托盘，所述静电吸盘用于在对位过程中固定待蒸镀基板，所述掩模板托盘用于在对位过程中放置掩模板；机器视觉系统，所述机器视觉系统设置在掩模板托盘下方的真空腔体内，用于对待蒸镀基板和掩模板的对位结果进行实时检测。

3、可选的，所述对位系统还包括：磁铁板，所述磁铁板位于真空腔体内，用于将掩模板吸附在待蒸镀基板上；静电吸盘升降装置，所述静电吸盘升降装置位于大气区内，一端与静电吸盘连接，另一端与六轴平台的第二分离式基座连接；磁铁板升降装置，所述磁铁板升降装置位于大气区内，一端与磁铁板连接，另一端与六轴平台的第二分离式基座连接。

4、可选的，所述六轴平台还包括：三轴平移旋转平台，所述三轴平移旋转平台设置在第一分离式基座和第二分离式基座之间。

5、可选的，以卡氏垂直坐标系为参照，所述电机包括：若干线性位移电机和若干升降调节步进电机；其中，若干线性位移电机设置在第一分离式基座上，每个线性位移电机与对应位置的传动装置连接，所述线性位移电机及对应位置的传动装置用于在x轴与y轴构成的水平面方向移动三轴平移旋转平台；若干升降调节步进电机设置在三轴平移旋转平台和第二分离式基座之间，每个升降调节步进电机与对应位置的传动装置连接，用于控制第二分离式基座在x轴与y轴构成的水平面方向的俯仰角变化，以及控制第二分离式基座在竖直z方向移动。

6、可选的，所述线性位移电机的位移精度范围为10-200nm。

7、可选的，所述升降调节步进电机的传动装置与第二分离式基座之间采用球形万向节连接。

8、可选的，所述六轴平台的定位精度范围为10-100nm，平移行程范围为100-5000μm，转角精度范围为±10mrad。

9、可选的，所述掩模板托盘上设置有间隙传感器，用于在对位过程中测量待蒸镀基板和掩模板之间的距离。

10、可选的，所述机器视觉系统包括对位摄影机，所述对位摄影机设置在掩模板托盘下方与掩模板对位孔相对应的位置，所述对位摄影机的像素分辨率范围为10-100nm。

11、可选的，所述主动隔离器的防振等级为vc-c、vc-d或vc-e中的一种。

12、可选的，所述磁铁板的磁场均一性范围小于±10％。

13、与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下有益效果：

14、本发明提供了一种蒸镀机对位系统，通过采用高精度六轴平台，同时搭配振动隔离系统，避免了外界环境对高精度对位过程带来的干扰，能够实现掩模板与基板之间高精度的对位，甚至满足掩模板与基板以0.1μm的精度对准。

15、进一步的，本发明提供的蒸镀机对位系统，通过两个三轴平台实现六轴平台的功能，在满足了基板与掩模板之间高精度的对位，及满足real rgb结构micro oled器件制备需求的前提下，大大降低了蒸镀机对位系统的成本。

1.一种蒸镀机对位系统，其特征在于，包括：

2.如权利要求1所述的蒸镀机对位系统，其特征在于，所述对位系统还包括：

3.如权利要求2所述的蒸镀机对位系统，其特征在于，所述六轴平台还包括：三轴平移旋转平台，所述三轴平移旋转平台设置在第一分离式基座和第二分离式基座之间。

4.如权利要求3所述的蒸镀机对位系统，其特征在于，以卡氏垂直坐标系为参照，所述电机包括：若干线性位移电机和若干升降调节步进电机；其中，

5.如权利要求4所述的蒸镀机对位系统，其特征在于，所述线性位移电机的位移精度范围为10-200nm。

6.如权利要求4所述的蒸镀机对位系统，其特征在于，所述升降调节步进电机的传动装置与第二分离式基座之间采用球形万向节连接。

7.如权利要求1-6中任一所述的蒸镀机对位系统，其特征在于，所述六轴平台的定位精度范围为10-100nm，平移行程范围为100-5000μm，转角精度范围为±10mrad。

8.如权利要求1所述的蒸镀机对位系统，其特征在于，所述掩模板托盘上设置有间隙传感器，用于在对位过程中测量待蒸镀基板和掩模板之间的距离。

9.如权利要求1所述的蒸镀机对位系统，其特征在于，所述机器视觉系统包括对位摄影机，所述对位摄影机设置在掩模板托盘下方与掩模板对位孔相对应的位置，所述对位摄影机的像素分辨率范围为10-100nm。

10.如权利要求1所述的蒸镀机对位系统，其特征在于，所述主动隔离器的防振等级为vc-c、vc-d或vc-e中的一种。

11.如权利要求2所述的蒸镀机对位系统，其特征在于，所述磁铁板的磁场均一性范围小于±10％。