反式阿魏酸双功能单体分子印迹聚合物及其制备方法、应用与流程

1.一种反式阿魏酸双功能单体分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

2.根据权利要求1所述的反式阿魏酸双功能单体分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，所述混合溶液中的所述甲基丙烯酸和丙烯酰胺的摩尔比为8:5。

3.根据权利要求2所述的反式阿魏酸双功能单体分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，所述混合溶液中的反式阿魏酸和所述丙烯酰胺的摩尔比为1.3:1。

4.根据权利要求1所述的反式阿魏酸双功能单体分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，所述反应温度为50-70℃；

5.根据权利要求1所述的反式阿魏酸双功能单体分子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，每0.5-7mmol反式阿魏酸使用50ml溶剂溶解，所述溶剂为无水乙醇、乙腈和甲醇中的一种或者两种以上；

6.一种反式阿魏酸双功能单体分子印迹聚合物，其特征在于，通过如权利要求1-5任一项所述的反式阿魏酸双功能单体分子印迹聚合物的制备方法制备而成。

7.一种如权利要求6所述的反式阿魏酸双功能单体分子印迹聚合物的应用，其特征在于，将所述反式阿魏酸双功能单体分子印迹聚合物应用于固相萃取法分离纯化发酵液中反式阿魏酸，包括以下步骤：

8.根据权利要求7所述的反式阿魏酸双功能单体分子印迹聚合物的应用，其特征在于，所述反式阿魏酸双功能单体分子印迹聚合物与所述含有反式阿魏酸的发酵液的固液比为1g:30-180ml。

9.根据权利要求7所述的反式阿魏酸双功能单体分子印迹聚合物的应用，其特征在于，所述含有反式阿魏酸的发酵液中反式阿魏酸的浓度为20-2000mg/l。

10.根据权利要求7所述的反式阿魏酸双功能单体分子印迹聚合物的应用，其特征在于，步骤（3）中，所述反式阿魏酸粗品用超纯水溶解至终浓度为9-12g/l；