7H-吡咯并[2,3-d]嘧啶-4-胺衍生物的制造方法与流程
技术特征:
1.一种式(i)所示的化合物或其盐的制造方法,其特征在于,包括:
2.如权利要求1所述的制造方法,其特征在于:
3.如权利要求1或2所述的制造方法,其特征在于:
4.一种式(i)所示的化合物或其盐的制造方法,其特征在于,包括:
5.如权利要求4所述的制造方法,其特征在于:
6.如权利要求4或5所述的制造方法,其特征在于:
7.如权利要求4所述的制造方法,其特征在于,还包括:
8.如权利要求7所述的制造方法,其特征在于:
9.如权利要求4所述的制造方法,其特征在于:
10.如权利要求9所述的制造方法,其特征在于:
11.一种组合物,其特征在于:
12.一种式(ii)所示的化合物或其盐,
13.如权利要求12所述的化合物或其盐,其特征在于:
14.如权利要求12或13所述的化合物或其盐,其特征在于:
技术总结
本发明提供一种适于作为API大量合成的式(I)所示的化合物的制造方法。根据本发明的一个方式,提供一种式(I)所示的化合物或其盐的制造方法,其包括:通过在碱性条件下将式(II)的R1所示的保护基脱保护,形成式(I)所示的化合物或其盐的步骤。
技术研发人员:武田大典,野野下克昌,小早川优
受保护的技术使用者:大鹏药品工业株式会社
技术研发日:
技术公布日:2024/12/2
文档序号 :
【 40201493 】
技术研发人员:武田大典,野野下克昌,小早川优
技术所有人:大鹏药品工业株式会社
备 注:该技术已申请专利,仅供学习研究,如用于商业用途,请联系技术所有人。
声 明 :此信息收集于网络,如果你是此专利的发明人不想本网站收录此信息请联系我们,我们会在第一时间删除
技术研发人员:武田大典,野野下克昌,小早川优
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