掩模的制作方法

本公开涉及掩模和包括掩模的沉积设备。

背景技术：

1、正在开发为眼镜或头盔的形式并且在靠近用户的眼睛的位置处形成焦点的可穿戴装置。例如，可穿戴装置可以是头戴式显示器(hmd)装置或增强现实(ar)眼镜。这样的可穿戴装置向用户提供ar图像或虚拟现实(vr)图像。

2、诸如hmd装置和ar眼镜的可穿戴装置可以被期望具有每英寸至少2000个像素(ppi)的显示规格，以允许用户长时间使用可穿戴装置而不会头晕。为此，硅基有机发光二极管(oledos)技术可以用于形成高分辨率的小型有机发光元件显示装置。oledos是用于将有机发光二极管(oled)布置在其上布置有互补金属氧化物半导体(cmos)的半导体晶圆衬底上的技术。

技术实现思路

1、本公开的实施方式提供了用于制造硅基有机发光二极管(oledos)显示面板的掩模，并且提供了能够提高像素位置精度(ppa)以提高可靠性并且降低成本的掩模以及包括掩模的沉积设备。

2、根据本公开的实施方式，提供了掩模，用于发射层的沉积工艺，包括：掩模主体，该掩模主体包括沿第一方向延伸的多个第一掩模网格和沿与第一方向垂直的第二方向延伸的多个第二掩模网格；多个孔，该多个孔由多个第一掩模网格和多个第二掩模网格限定，其中，多个孔被限定穿过掩模主体的一部分；多个第一加热布线，该多个第一加热布线被布置成与多个第一掩模网格重叠并且连接到多个第一布线；多个第二加热布线，该多个第二加热布线被布置成与多个第二掩模网格重叠并且连接到多个第二布线；多个第一焊盘，该多个第一焊盘连接到多个第一布线；以及多个第二焊盘，该多个第二焊盘连接述多个第二布线，其中，电流或电压通过探针被输入到多个第一焊盘和多个第二焊盘。

3、在实施方式中，多个第一布线和多个第一加热布线可以分别被布置成彼此重叠，并且多个第二布线和多个第二加热布线可以分别被布置成彼此重叠。

4、在实施方式中，探针可以被设置成将电流或电压独立地施加到多个第一焊盘，并且探针可以被设置成将电流或电压独立地施加到多个第二焊盘。

5、在实施方式中，多个第一加热布线可以彼此断开，并且多个第二加热布线可以彼此断开。

6、在实施方式中，多个第一加热布线可以在多个孔的边界处彼此断开，并且多个第二加热布线可以在多个孔的边界处彼此断开。

7、在实施方式中，多个第一加热布线的一部分可以通过基于电流或电压被加热而使多个第一掩模网格的一部分热膨胀，并且多个第二加热布线的一部分可以通过基于电流或电压被加热而使多个第二掩模网格的一部分热膨胀。

8、在实施方式中，在发射层的沉积工艺期间，掩模可以使多个第一掩模网格的一部分热膨胀，并且使多个第二掩模网格的一部分热膨胀。

9、在实施方式中，发射层可以是布置在半导体晶圆衬底上的有机发光二极管(oled)的局部层。

10、在实施方式中，掩模可以被布置在沉积设备的沉积室内部，并且多个第一加热布线和多个第二加热布线可以被布置成面对布置在沉积室内部的沉积源。

11、在实施方式中，掩模可以被布置在沉积设备的沉积室内部以被磁性衬底固定，并且多个第一加热布线和多个第二加热布线可以被布置在磁性衬底与掩模之间。

12、根据本公开的实施方式，提供了沉积设备，用于发射层的沉积工艺，包括沉积室、布置在沉积室内部的掩模、布置在沉积室内部的沉积源以及布置在沉积室内部的固定构件，其中，固定构件包括主体部分以及将掩模固定到主体部分的磁性衬底。在这样的实施方式中，掩模包括：掩模主体，该掩模主体包括沿第一方向延伸的多个第一掩模网格和沿与第一方向垂直的第二方向延伸的多个第二掩模网格；多个孔，该多个孔由多个第一掩模网格和多个第二掩模网格限定，其中，多个孔被限定穿过掩模主体的一部分；多个第一加热布线，该多个第一加热布线被布置成与多个第一掩模网格重叠并且连接到多个第一布线；多个第二加热布线，该多个第二加热布线被布置成与多个第二掩模网格重叠并且连接到多个第二布线；多个第一焊盘，该多个第一焊盘连接到多个第一布线；以及多个第二焊盘，该多个第二焊盘连接述多个第二布线，其中，电流或电压通过探针被输入到多个第一焊盘和多个第二焊盘。

13、在实施方式中，多个第一布线和多个第一加热布线可以分别被布置成彼此重叠，并且多个第二布线和多个第二加热布线可以分别被布置成彼此重叠。

14、在实施方式中，探针可以被设置成将电流或电压独立地施加到多个第一焊盘，并且探针可以被设置成将电流或电压独立地施加到多个第二焊盘。

15、在实施方式中，多个第一加热布线可以彼此断开，并且多个第二加热布线可以彼此断开。

16、在实施方式中，多个第一加热布线可以在多个孔的边界处彼此断开，并且多个第二加热布线可以在多个孔的边界处彼此断开。

17、在实施方式中，多个第一加热布线的一部分可以通过基于电流或电压被加热而使多个第一掩模网格的一部分热膨胀，并且多个第二加热布线的一部分可以通过基于电流或电压被加热而使多个第二掩模网格的一部分热膨胀。

18、在实施方式中，在发射层的沉积工艺期间，掩模可以使多个第一掩模网格的一部分热膨胀，并且使多个第二掩模网格的一部分热膨胀。

19、在实施方式中，发射层可以是布置在半导体晶圆衬底上的有机发光二极管oled的局部层。

20、在实施方式中，多个第一加热布线和多个第二加热布线可以被布置成面对沉积源。

21、在实施方式中，多个第一加热布线和多个第二加热布线可以被布置在磁性衬底与掩模之间。

22、按照根据实施方式的掩模和包括掩模的沉积设备，可以改善像素位置精度ppa以提高可靠性并且降低成本。

1.一种掩模，用于发射层的沉积工艺，其特征在于，所述掩模包括：

2.根据权利要求1所述的掩模，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的掩模，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的掩模，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的掩模，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的掩模，其特征在于，

7.根据权利要求6所述的掩模，其特征在于，

8.根据权利要求1所述的掩模，其特征在于，

9.根据权利要求1所述的掩模，其特征在于，

10.根据权利要求1所述的掩模，其特征在于，