光硬化性有机聚硅氧烷、光硬化性有机聚硅氧烷组合物及硬化物的制作方法

本发明涉及一种光硬化性有机聚硅氧烷、光硬化性有机聚硅氧烷组合物及硬化物。

背景技术：

1、光硬化性聚硅氧烷由于含有所述光硬化性聚硅氧烷的组合物自身的涂布性(流动性)优异、且获得的硬化物也具有优异的耐久性，因此可用于涂料材料、接着剂材料、封装材料、电子材料等广泛的用途。

2、作为光硬化性聚硅氧烷的具体用途，可列举：发光二极管(light emittingdiode，led)或太阳能电池板的保护涂层剂(例如专利文献1)、光致抗蚀剂用的原料聚合物(例如专利文献2及专利文献3)等。

3、[现有技术文献]

4、[专利文献]

5、[专利文献1]日本专利特表2015-516478号公报

6、[专利文献2]日本专利特表2011-23698号公报

7、[专利文献3]wo2016/072202号

技术实现思路

1、[发明所要解决的问题]

2、可简单清洗一度硬化后的聚硅氧烷树脂的“再加工性”成为重要的要求性能。在所述用途的情况下，除了在太阳能电池板中在经年劣化后的面板的再利用时需要去除保护涂层剂以外，在光刻工艺中所形成的抗蚀剂膜的图案形状并非所期望的形状的情况下，也进行剥离所述抗蚀剂膜而再次形成抗蚀剂膜。

3、专利文献1～专利文献3所公开的聚硅氧烷树脂均不能说耐久性及再加工性充分，因此谋求一种具有优异的再加工性的聚硅氧烷树脂。

4、本发明所要解决的课题在于提供一种获得的硬化物的耐久性及再加工性优异的光硬化性有机聚硅氧烷。

5、本发明所要解决的另一课题在于提供一种含有耐久性及再加工性优异的光硬化性有机聚硅氧烷的组合物的硬化物。

6、[解决问题的技术手段]

7、本发明人等为解决所述课题进行了努力研究，结果发现，只要为将t单元的比例、聚合性官能基及烷氧基硅烷基的量设为特定的范围的有机聚硅氧烷，则获得的硬化物的耐久性及再加工性优异，从而完成了本发明。

8、即，本发明涉及一种光硬化性有机聚硅氧烷等。

9、1.一种光硬化性有机聚硅氧烷，具有下述通式(1)所表示的聚合性官能基及烷氧基硅烷基，所述光硬化性有机聚硅氧烷中，

10、t单元在总硅烷氧基单元中所占的比例为70摩尔％以上，

11、所述光硬化性有机聚硅氧烷含有40质量％以上的所述通式(1)所表示的聚合性官能基，且以0.1质量％～10质量％的范围含有所述烷氧基硅烷基。

12、[化3]

13、＊-o-r11-y

14、(1)

15、(在所述通式(1)中，

16、r11为单键或碳原子数1～12的亚烷基，

17、y为包含碳-碳不饱和键的基，

18、*表示与所述有机聚硅氧烷的硅原子的键结位置)

19、2.根据1所述的光硬化性有机聚硅氧烷，其中，所述通式(1)所表示的聚合性官能基为下述通式(1-2)所表示的聚合性官能基。

20、[化4]

21、

22、(在所述通式(1-2)中，

23、r11为单键或碳原子数1～12的亚烷基，

24、r12为氢原子或碳原子数1～12的烷基，

25、*表示与所述有机聚硅氧烷的硅原子的键结位置)

26、3.根据1或2所述的光硬化性有机聚硅氧烷，其中，聚硅氧烷结构的含量为35质量％以上。

27、4.根据1至3中任一项所述的光硬化性有机聚硅氧烷，其中，25℃下的粘度为150mpa·s以下。

28、5.一种光硬化性有机聚硅氧烷组合物，含有根据1至4中任一项所述的光硬化性有机聚硅氧烷以及光聚合引发剂。

29、6.根据5所述的光硬化性有机聚硅氧烷组合物，其为抗蚀剂组合物。

30、7.一种硬化物，其为根据5或6所述的光硬化性有机聚硅氧烷组合物的硬化物。

31、[发明的效果]

32、根据本发明，可提供一种涂布性优异、获得的硬化物的耐久性及再加工性优异的光硬化性有机聚硅氧烷。

33、根据本发明，可提供一种含有耐久性及再加工性优异的光硬化性有机聚硅氧烷的组合物的硬化物。

1.一种光硬化性有机聚硅氧烷，具有下述通式(1)所表示的聚合性官能基及烷氧基硅烷基，所述光硬化性有机聚硅氧烷中，

2.根据权利要求1所述的光硬化性有机聚硅氧烷，其中，所述通式(1)所表示的聚合性官能基为下述通式(1-2)所表示的聚合性官能基，

3.根据权利要求1或2所述的光硬化性有机聚硅氧烷，其中，聚硅氧烷结构的含量为35质量％以上。

4.根据权利要求1或2所述的光硬化性有机聚硅氧烷，其中，25℃下的粘度为150mpa·s以下。

5.一种光硬化性有机聚硅氧烷组合物，含有如权利要求1或2所述的光硬化性有机聚硅氧烷以及光聚合引发剂。

6.根据权利要求5所述的光硬化性有机聚硅氧烷组合物，其为抗蚀剂组合物。

7.一种硬化物，其为如权利要求5所述的光硬化性有机聚硅氧烷组合物的硬化物。