Co-Cr-Pt-B系强磁性材料溅射靶的制作方法

1.一种co-cr-pt-b系强磁性材料溅射靶，其特征在于，包含：

2.根据权利要求1所述的co-cr-pt-b系强磁性材料溅射靶，其特征在于，cr为大于0原子%且30原子%以下，pt为5原子%以上且30原子%以下，b为大于0原子%且25原子%以下，余量为co和不可避免的杂质。

3.根据权利要求1或2所述的co-cr-pt-b系强磁性材料溅射靶，其特征在于，所述合金相(a)还含有大于0原子%且25原子%以下的选自al、si、sc、ti、v、mn、fe、ni、cu、zn、ge、y、zr、nb、ta、mo、w、ru、ag、sn、la、ce、pr、nd、sm、gd、tb、dy、ho、hf中的一种以上元素作为添加元素。

4.一种制造方法，其是权利要求1～3中任一项所述的co-cr-pt-b系强磁性材料溅射靶的制造方法，其特征在于，包括：

5.根据权利要求4所述的制造方法，其特征在于，所述co-cr-pt-b合金粉末以及所述co-b合金粉末、co-cr-b合金粉末或co-pt-b合金粉末为雾化合金粉末。

6.根据权利要求4或5所述的制造方法，其特征在于，在所述烧结工序中，将所述混合粉末在10mpa以上且100mpa以下的压力、700℃以上且1300℃以下的温度下保持30分钟以上且3小时以下。