清洁系统、基站、清洁设备及清洁方法与流程

1.一种清洁系统，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的清洁系统，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的清洁系统，其特征在于，

4.根据权利要求3所述的清洁系统，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的清洁系统，其特征在于，

6.根据权利要求5所述的清洁系统，其特征在于，

7.根据权利要求5所述的清洁系统，其特征在于，

8.根据权利要求7所述的清洁系统，其特征在于，

9.根据权利要求8所述的清洁系统，其特征在于，在由所述第二位置(25)向所述第一位置(24)移动时，所述抬升部(740)抵推所述箱盖(21)，所述箱盖(21)相对所述第二开口(200)移动，直至盖合所述第二开口(200)。

10.根据权利要求9所述的清洁系统，其特征在于，

11.根据权利要求10所述的清洁系统，其特征在于，

12.根据权利要求7所述的清洁系统，其特征在于，

13.根据权利要求12所述的清洁系统，其特征在于，

14.根据权利要求12所述的清洁系统，其特征在于，

15.根据权利要求12所述的清洁系统，其特征在于，

16.根据权利要求14所述的清洁系统，其特征在于，在所述清洁工作状态下，所述位置调节组件(74)控制所述过滤组件(2)在所述第一位置(24)与所述第二位置(25)之间往复移动，以使所述清洁组件对不同位置的多个所述清洁区域(26)进行清洁。

17.根据权利要求5所述的清洁系统，其特征在于，

18.根据权利要求17所述的清洁系统，其特征在于，

19.根据权利要求17所述的清洁系统，其特征在于，

20.根据权利要求5所述的清洁系统，其特征在于，

21.根据权利要求20所述的清洁系统，其特征在于，

22.根据权利要求10所述的清洁系统，其特征在于，

23.根据权利要求13所述的清洁系统，其特征在于，

24.根据权利要求23所述的清洁系统，其特征在于，

25.根据权利要求3所述的清洁系统，其特征在于，所述基站(7)还设有用于为所述基体(1)充电的充电模块(78)。

26.一种基站，其特征在于，所述基站(7)具有清洁工作状态，在所述清洁工作状态下，所述基站(7)被配置为能够对处于第二状态下的过滤组件(2)进行清洁，其中所述第二状态为所述过滤组件(2)的过滤腔(22)与外界连通的状态，在所述第二状态下，所述过滤腔(22)内的垃圾能够向外部导出。

27.一种清洁设备，其特征在于，包括：

28.根据权利要求27所述的清洁设备，其特征在于，所述基体(1)包括连通所述容纳腔(10)的第一开口(11)，在所述第二状态，所述过滤组件(2)的至少部分由所述第一开口(11)从所述容纳腔(10)凸出所述基体(1)外侧，所述过滤腔(22)的垃圾能够向所述基体(1)的外部导出。

29.根据权利要求28所述的清洁设备，其特征在于，所述过滤组件(2)包括箱体(20)及连接所述箱体(20)的箱盖(21)，所述箱体(20)设于所述容纳腔(10)，所述箱体(20)设有第二开口(200)；在所述第一状态，所述箱盖(21)盖合所述第二开口(200)并密封所述第一开口(11)；在所述第二状态，所述箱盖(21)相对所述第二开口(200)移动，至少部分所述第二开口(200)与所述第一开口(11)连通以导出所述垃圾。

30.根据权利要求29所述的清洁设备，其特征在于，所述切换机构包括锁合组件(3)，所述锁合组件(3)包括第三状态和第四状态，在所述第三状态，所述锁合组件(3)保持所述箱盖(21)盖合所述第二开口(200)，以使所述过滤组件(2)处于所述第一状态；在所述第四状态，所述锁合组件(3)释放所述箱盖(21)，以使所述过滤组件(2)处于所述第二状态。

31.根据权利要求30所述的清洁设备，其特征在于，所述切换机构还包括触发件(32)，所述触发件(32)设于所述基体(1)，所述触发件(32)被配置为能够使所述锁合组件(3)在所述第三状态和所述第四状态之间切换。

32.根据权利要求31所述的清洁设备，其特征在于，

33.根据权利要求32所述的清洁设备，其特征在于，

34.根据权利要求33所述的清洁设备，其特征在于，所述锁合组件(3)还包括弹性组件，所述弹性组件包括第一弹性件(34)，在所述第三状态，所述第一弹性件(34)被配置为能够抵推所述抵接件(31)，以使所述抵接件(31)保持所述箱体(20)位于所述容纳腔(10)；响应于所述触发件(32)的触发，所述锁合组件(3)由所述第三状态切换至所述第四状态，所述抵接件(31)抵推所述第一弹性件(34)发生弹性收缩并使所述抵接件(31)脱离所述箱体(20)。

35.根据权利要求33所述的清洁设备，其特征在于，所述切换机构还包括限位件(33)，所述限位件(33)用于引导所述抵接件(31)在所述第三状态和所述第四状态之间切换位置；

36.根据权利要求34所述的清洁设备，其特征在于，

37.根据权利要求33所述的清洁设备，其特征在于，所述箱体(20)朝向所述抵接件(31)的一侧设有承托部(201)，在所述第三状态，所述抵接件(31)用于承托所述承托部(201)。

38.根据权利要求33所述的清洁设备，其特征在于，

39.根据权利要求38所述的清洁设备，其特征在于，

40.根据权利要求39所述的清洁设备，其特征在于，

41.根据权利要求38所述的清洁设备，其特征在于，

42.根据权利要求41所述的清洁设备，其特征在于，所述切换机构还包括限位件(33)，所述限位件(33)用于引导所述弹性组件在所述第三状态和所述第四状态之间弹性形变。

43.根据权利要求30所述的清洁设备，其特征在于，

44.根据权利要求43所述的清洁设备，其特征在于，

45.根据权利要求44所述的清洁设备，其特征在于，

46.根据权利要求44所述的清洁设备，其特征在于，

47.根据权利要求27所述的清洁设备，其特征在于，

48.根据权利要求29所述的清洁设备，其特征在于，

49.根据权利要求30所述的清洁设备，其特征在于，

50.一种清洁设备的清洁方法，其特征在于，应用于基站(7)，所述清洁设备包括基体(1)，所述基体(1)具有过滤组件(2)，所述过滤组件(2)包括第一状态及第二状态，在所述第一状态下，所述基体(1)位于水中时能够控制含有杂质的水流进行过滤后向所述基体(1)外排出过滤后的水流，在所述第二状态下，所述过滤组件(2)内的垃圾向所述基体(1)的外部导出；所述清洁方法包括：

51.根据权利要求50所述的清洁方法，其特征在于，

52.根据权利要求51所述的清洁方法，其特征在于，

53.根据权利要求52所述的清洁方法，其特征在于，

54.根据权利要求50所述的清洁方法，其特征在于，在清洁所述过滤组件(2)之后，所述清洁方法还包括：

55.一种清洁方法，其特征在于，应用于清洁设备，所述清洁设备包括基体(1)，所述基体(1)具有过滤组件(2)，所述过滤组件(2)包括第一状态及第二状态，在所述第一状态下，所述基体(1)位于水中时能够控制对含有杂质的水流进行过滤后向所述基体(1)外排出过滤后的水流，在所述第二状态下，所述过滤组件(2)内的垃圾向所述基体(1)的外部导出；所述清洁方法包括：