抛光废液处理组合物及抛光废液处理方法与流程

本发明涉及抛光处理，尤其涉及一种抛光废液处理组合物及抛光废液处理方法。

背景技术：

1、在晶圆制造工艺中，晶圆研磨是非常重要的一步。在晶圆研磨过程中，通常采用研磨机并利用研磨液、抛光液对晶圆进行研磨、抛光。研磨抛光后会产生废弃液。废弃液中一般会含有高锰酸钾、三氧化二铝等化学物质。为了满足排放标准，一般需要对废弃液进行处理，以去除废弃液中的有害物质。

2、常见的处理方法包括沉淀法、氧化还原法。对于沉淀法而言，依靠重力使废弃液中的物质自然沉降。沉淀法的成本低廉，但是耗时较长、无法去除废弃液中的其他有害物质，且废弃液的ph无法达标。对于氧化还原法，可以短时间内去除有害物质，并有效调节废弃液的ph。氧化还原法的耗时短，但是成本高昂，且有毒有害，容易对工作人员造成损伤。

3、目前针对相关技术中存在的无法满足短时间及低成本、有毒有害等问题，尚未提出有效的解决方案。

技术实现思路

1、本发明的目的是针对现有技术中的不足，提供一种抛光废液处理组合物及抛光废液处理方法，以解决相关技术中存在的无法满足短时间及低成本、有毒有害等问题。

2、为实现上述目的，本发明采取的技术方案是：

3、第一方面，本发明提供一种抛光废液处理组合物，用于处理含有kmno4、al2o3的废弃抛光液，包括：

4、第一处理液，所述第一处理液包括草酸、无机强酸和水，其中，所述第一处理液的ph为1~1.5；

5、第二处理液，所述第二处理液包括13-lf、无机强碱和水，其中，所述第二处理液的ph为12~13。

6、在其中的一些实施例中，所述无机强酸包括盐酸、硫酸、硝酸。

7、在其中的一些实施例中，所述无机强碱包括氢氧化钠、氢氧化钾。

8、在其中的一些实施例中，在所述第一处理液中，所述草酸的质量浓度与所述无机强酸的质量浓度相等。

9、在其中的一些实施例中，在所述第一处理液中，所述草酸的体积与所述无机强酸的体积相等。

10、在其中的一些实施例中，所述草酸、所述无机强酸、所述水的体积比为1：1：3-4。

11、在其中的一些实施例中，在所述第二处理液中，所述13-lf的体积与所述无机强碱的体积相等。

12、在其中的一些实施例中，所述13-lf、所述无机强碱、所述水的体积比为1：1：3-5。

13、第二方面，本发明提供一种抛光废液处理方法，用于处理含有kmno4、al2o3的废弃抛光液，包括：

14、将如第一方面所述的抛光废液处理组合物的第一处理液按第一预设体积比添加至废弃抛光液，静置第一预设时间，用于还原废弃抛光液的高价锰离子；

15、将如第一方面所述的抛光废液处理组合物的第二处理液按第二预设体积比添加至废弃抛光液，静置第二预设时间，用于获得澄清废液和沉淀物。

16、在其中的一些实施例中，所述第一预设体积比为1：100-150。

17、在其中的一些实施例中，所述第一预设时间为15min-45min。

18、在其中的一些实施例中，所述第二预设体积比为1：200-300。

19、在其中的一些实施例中，所述第二预设时间为45min~75min。

20、在其中的一些实施例中，还包括：

21、在添加第一处理液至废弃抛光液后搅拌。

22、在其中的一些实施例中，还包括：

23、在添加第二处理液至废弃抛光液后搅拌。

24、在其中的一些实施例中，包括：

25、将第一处理液按体积比为1：100添加入废弃抛光液，搅拌，静置30min；

26、将第二处理液按体积比为1：200添加入废弃抛光液，搅拌，静置1h。

27、本发明采用以上技术方案，与现有技术相比，具有如下技术效果：

28、本发明的一种抛光废液处理组合物及抛光废液处理方法，使用低成本的化学药品，可以大幅度降低成本；采用无毒无害的化学药品替代有毒药品，防止工作人员操作时因误触产生误伤；配置溶液时无须复杂操作即可完成溶液配置；仅需将处理液倒入废弃抛光液搅拌静置即可，无复杂操作，简单方便。

1.一种抛光废液处理组合物，用于处理含有kmno4、al2o3的废弃抛光液，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的抛光废液处理组合物，其特征在于，所述无机强酸包括盐酸、硫酸、硝酸。

3.根据权利要求1所述的抛光废液处理组合物，其特征在于，所述无机强碱包括氢氧化钠、氢氧化钾。

4.根据权利要求1所述的抛光废液处理组合物，其特征在于，在所述第一处理液中，所述草酸的质量浓度与所述无机强酸的质量浓度相等；和/或

5.根据权利要求1所述的抛光废液处理组合物，其特征在于，在所述第二处理液中，所述13-lf的体积与所述无机强碱的体积相等；和/或

6.一种抛光废液处理方法，用于处理含有kmno4、al2o3的废弃抛光液，其特征在于，包括：

7.根据权利要求6所述的抛光废液处理方法，其特征在于，所述第一预设体积比为1：100-150；和/或

8.根据权利要求6所述的抛光废液处理方法，其特征在于，所述第二预设体积比为1：200-300；和/或

9.根据权利要求6所述的抛光废液处理方法，其特征在于，还包括：

10.根据权利要求6～9任一所述的抛光废液处理方法，其特征在于，包括：