一种发光分布测量方法与流程

1.一种发光分布测量方法，其特征在于，利用曲面网状屏和具有面阵传感器的成像测量单元测量待测发光体的空间光分布，包括一个采样口，且曲面网状屏表面具有网格状分布的漫透射元；测量步骤包括：将待测发光体的待测区域置于采样口处，从该待测区域发出的光照射到曲面网状屏上，从而在各个漫透射元上形成光斑；使用成像测量单元获取曲面网状屏上由各个漫透射元组成的光斑图像；使用数据处理单元分析光斑图像获得待测区域的光学量值随空间角度的变化。

2.根据权利要求1所述的一种发光分布测量方法，其特征在于，将空间光分布已知的标准光源置于所述采样口，对成像测量单元进行校准；所述的空间光分布包括但不限于空间亮度分布、空间光强分布、空间辐亮度分布、空间辐强度分布或者空间色度分布。

3.根据权利要求2所述的一种发光分布测量方法，其特征在于，所述标准光源的发光角度大于曲面网状屏边沿相对于采样口中心的夹角，或者标准光源绕采样口中心旋转，实现大角度范围内的光分布校准。

4.根据权利要求1或2所述的一种发光分布测量方法，其特征在于，根据曲面网状屏各漫透射元与采样口之间的空间位置关系，以及漫透射元与成像测量单元的位置关系，建立成像测量单元中的面阵传感器各像素点或各像素区域与待测区域的空间发光角度之间的关系。

5.根据权利要求4所述的一种发光分布测量方法，其特征在于，以采样口中心为原点建立坐标系，获得各个漫透射元相对于原点的空间角度坐标；每个漫透射元与成像测量单元中的一个像素点或者一个像素区域相对应，且对应几何关系经过标定；建立成像测量单元中各个像素点或各个像素区域的坐标与空间角度坐标之间的对应关系。

6.根据权利要求1所述的一种发光分布测量方法，其特征在于，使用具有均匀发光面的标准亮度源不经过曲面网状屏而直接校准成像测量单元中各像素点或像素区域的响应度；在空间光分布测量中，根据各像素点或像素区域的响应，利用采样口中心到漫透射元的空间几何关系和漫透射元的透射比计算得到待测发光体的发光分布参数。

7.根据权利要求1到6任意一条权利要求所述的一种发光分布测量方法，其特征在于，将成像测量单元设置在旋转机构上，通过旋转机构将成像测量装置带动到两个或以上不同角度下分别拍摄光斑图像；或采用两个或以上的成像测量单元分别从不同的角度拍摄获取光斑图像，通过图像拼接裁剪处理，从而获得待测发光体在感兴趣空间范围的发光分布参数。

8.基于权利要求1所述的一种发光分布测量方法的测量装置，其特征在于，包括具有圆锥面的遮光装置、曲面网状屏、具有面阵传感器的成像测量单元，所述曲面网状屏设置在遮光装置的一端，且曲面网状屏表面具有网格状分布的漫透射元；所述遮光装置相对于曲面网状屏的另一端上设有一个采样口，待测发光体的待测区域置于采样口处，从该待测区域发出的光照射到曲面网状屏上，在各个漫透射元上产生光斑，所述成像测量单元对准曲面网状屏，采集测量光斑图像并计算得到空间光分布参数。

9.根据权利要求8所述的一种测量装置，其特征在于，还包括用于对成像测量单元进行校准的已知空间光分布信息的标准光源。

10.根据权利要求8所述的一种测量装置，其特征在于，还包括样品台，所述待测发光体放置在样品台上，通过样品台的移动调整待测发光体的待测区域。