一种晶片双面清洁设备的制作方法

本发明涉及晶片清洁，尤其涉及一种晶片双面清洁设备。

背景技术：

1、再生晶片表面经过去膜、抛光、清洗等工序能够进行平整化，以达到再次使用的标准，能够减少资源浪费，降低生产成本。

2、通过清理条的方式能够代替滚刷清洁的方式对再生晶片表面进行高效清洁，以去除其表面大部分的残留颗粒。

3、但是，受限于晶片厚度尺寸以及加工方式，通过清理条进行清洁的过程中是对晶片单面进行清洁，再生晶片的两侧表面均需要进行深度清洁，在单面清洁后需要调整再生晶片的清洁位置，利用传统的清洁设备难以稳定有效地对晶片双面进行清洁，降低了再生晶片清洁的效果以及效率。

技术实现思路

1、针对上述问题，本发明提供一种晶片双面清洁设备，该发明能够实现对再生晶片双面的同步连续清洁，极大地提高了再生晶片清洁的效率。

2、为解决上述问题，本发明所采用的技术方案是：

3、一种晶片双面清洁设备，包括支撑平台，所述支撑平台上端安装有对再生晶片限位并且控制再生晶片围绕自身轴线定向转动的驱动装置，还包括对再生晶片表面清洁的清理条以及对清理条进行导向的导向结构，所述导向结构包括两组第一导向装置以及一组第二导向装置，两组所述第一导向装置位于驱动装置两侧对称布置，所述第二导向装置位于驱动装置上方预定位置；所述清理条依次穿过第一个第一导向装置、第二导向装置、第二个第一导向装置形成倒置的v字形结构，所述第一导向装置与清理条之间具有折弯点，所述折弯点位于再生晶片圆心或者圆心正下方位置；其中，通过驱动装置控制再生晶片围绕自身轴线定向转动的同时控制清理条按照预定轨迹定向移动完成对再生晶片双面的连续清洁。

4、优选地，所述第二导向装置包括导向支架，所述导向支架内壁安装有两组间隔布置的抵紧滚轮，还安装有位于两个抵紧滚轮上方的换向滚轮，所述清理条绕经换向滚轮进行换向，两个所述抵紧滚轮均位于清理条外侧与清理条相抵。

5、优选地，所述导向支架侧壁开有调节开口，两个所述抵紧滚轮均位于调节开口内，且调节开口内安装有控制两个抵紧滚轮之间距离的调节组件。

6、优选地，所述导向支架上端安装有定位杆，所述定位杆顶部连接有弹性的锁紧结构。

7、优选地，所述清理条为环形的闭合结构，所述支撑平台下端安装有位于清理条移动路径上的净化槽，通过净化槽对清理条表面进行清洁。

8、优选地，所述第一导向装置包括安装板，所述安装板内侧安装有对清理条导向的第二导向组件,安装板外侧安装有对清理条导向的第一导向组件。

9、优选地，所述第二导向组件包括伸缩杆，安装于伸缩杆伸缩末端的导向底座，所述导向底座内壁转动连接有导向轮，所述伸缩杆伸缩方向与再生晶片自身轴线相同。

10、优选地，所述支撑平台上端安装有控制安装板线性移动的电动导轨，通过电动导轨控制安装板沿着再生晶片自身轴线方向线性移动。

11、优选地，所述驱动装置包括驱动安装座和多个驱动滚轮，所述驱动滚轮安装于驱动安装座侧壁且多个驱动滚轮位于虚拟圆周线上。

12、本发明的有益效果为：

13、与现有技术相比较，通过上述方式，能够控制清理条按照预定的轨迹进行移动，在再生晶片的外侧形成倒置的v字形清洁结构，能够对再生晶片两侧表面进行深度清洁，清理条定向移动的过程中能够将颗粒杂质带走，最大程度上避免了污染物质的残留，保证了成品再生晶片两侧的清洁度满足要求；通过该方式能够实现对再生晶片双面的同步连续清洁，极大地提高了再生晶片清洁的效率。

1.一种晶片双面清洁设备，包括支撑平台（100），所述支撑平台（100）上端安装有对再生晶片（500）限位并且控制再生晶片（500）围绕自身轴线定向转动的驱动装置（400），还包括对再生晶片（500）表面清洁的清理条（700）以及对清理条（700）进行导向的导向结构，其特征在于：

2.根据权利要求1所述的一种晶片双面清洁设备，其特征在于，所述第二导向装置（600）包括导向支架（610），所述导向支架（610）内壁安装有两组间隔布置的抵紧滚轮（620），还安装有位于两个抵紧滚轮（620）上方的换向滚轮（630），所述清理条（700）绕经换向滚轮（630）进行换向，两个所述抵紧滚轮（620）均位于清理条（700）外侧与清理条（700）相抵。

3.根据权利要求2所述的一种晶片双面清洁设备，其特征在于，所述导向支架（610）侧壁开有调节开口（611），两个所述抵紧滚轮（620）均位于调节开口（611）内，且调节开口（611）内安装有控制两个抵紧滚轮（620）之间距离的调节组件。

4.根据权利要求2所述的一种晶片双面清洁设备，其特征在于，所述导向支架（610）上端安装有定位杆（612），所述定位杆（612）顶部连接有弹性的锁紧结构。

5.根据权利要求1所述的一种晶片双面清洁设备，其特征在于，所述清理条（700）为环形的闭合结构，所述支撑平台（100）下端安装有位于清理条（700）移动路径上的净化槽（200），通过净化槽（200）对清理条（700）表面进行清洁。

6.根据权利要求5所述的一种晶片双面清洁设备，其特征在于，所述第一导向装置（300）包括安装板（320），所述安装板（320）内侧安装有对清理条（700）导向的第二导向组件（340）,安装板（320）外侧安装有对清理条（700）导向的第一导向组件（330）。

7.根据权利要求6所述的一种晶片双面清洁设备，其特征在于，所述第二导向组件（340）包括伸缩杆（341），安装于伸缩杆（341）伸缩末端的导向底座（342），所述导向底座（342）内壁转动连接有导向轮（343），所述伸缩杆（341）伸缩方向与再生晶片（500）自身轴线相同。

8.根据权利要求6所述的一种晶片双面清洁设备，其特征在于，所述支撑平台（100）上端安装有控制安装板（320）线性移动的电动导轨（310），通过电动导轨（310）控制安装板（320）沿着再生晶片（500）自身轴线方向线性移动。

9.根据权利要求1所述的一种晶片双面清洁设备，其特征在于，所述驱动装置（400）包括驱动安装座（410）和多个驱动滚轮（420），所述驱动滚轮（420）安装于驱动安装座（410）侧壁且多个驱动滚轮（420）位于虚拟圆周线上。