一种中性色低辐射镀膜玻璃的制作方法

1.一种中性色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基板以及镀设于所述的玻璃基板一侧表面的镀膜层，所述的镀膜层包括所述的玻璃基体上由内到外依次沉积的第一介质层、第一种子层、第一功能层、第一保护层、第一azo层、第二保护层、第二介质层、第二种子层、第二功能层、第三保护层、第二azo层、第三介质层，所述的第一保护层、第二保护层、第三保护层均为nbti、nbcr、nicr、nbtiox、nbcrox、nicrox中一种或多种的组合，且所述的第一保护层、第二保护层、第三保护层中至少一个包括nbti、nbtiox。

2.根据权利要求1所述的中性色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述nbti中ti的质量百分比为20-50％。

3.根据权利要求1所述的中性色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的第一介质层、第二介质层、第三介质层均为sinx层、siox层、sinxoy层、tiox层中的一层或多层的组合。

4.根据权利要求1所述的中性色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的第一种子层、第二种子层为znox层、znsnox层中的一层或多层的组合。

5.根据权利要求1所述的中性色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的第一功能层、第二功能层为ag层、ag+cu层或ag+cu+ag层。

6.根据权利要求1所述的中性色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的第一保护层、第二保护层、第三保护层的厚度范围均为0-6nm；所述的第一介质层的厚度范围为24-51nm；所述的第一种子层、第二种子层的厚度范围为6-17nm；所述的第一azo层、第二azo层的厚度范围均为0-6nm；所述的第二介质层的厚度范围为49-76nm；所述的第三介质层的厚度范围为32-54nm。

7.根据权利要求1所述的中性色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的第一功能层、第二功能层的厚度范围均为10-18nm；若所述的第一功能层、第二功能层包括cu层，cu层的厚度范围是0-4nm。

8.根据权利要求1所述的中性色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的镀膜玻璃还包括设置在所述的第三介质层外侧的第三种子层、第三功能层、第四保护层、第三azo层、第四介质层。

9.根据权利要求8所述的中性色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的第三种子层为znox层、znsnox层中的一层或多层的组合；所述的第三功能层为ag层、ag+cu层或ag+cu+ag层；所述的第四保护层为nbti、nbcr、nicr、nbtiox、nbcrox、nicrox中一种或多种的组合；所述的第四介质层为sinx层、siox层、sinxoy层、tiox层中的一层或多层的组合。

10.根据权利要求9所述的中性色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述的第三种子层的厚度范围为6-17nm；所述的第三功能层的厚度范围为10-18nm；所述的第四保护层的厚度范围为0-5nm；所述的第三azo层的厚度为6nm；所述的第四介质层的厚度范围为25-41nm。